[實用新型]一種承載布槽有效
| 申請號: | 201220268207.3 | 申請日: | 2012-06-08 |
| 公開(公告)號: | CN202595486U | 公開(公告)日: | 2012-12-12 |
| 發明(設計)人: | 林韋廷 | 申請(專利權)人: | 林韋廷 |
| 主分類號: | D06B23/14 | 分類號: | D06B23/14 |
| 代理公司: | 北京元中知識產權代理有限責任公司 11223 | 代理人: | 張聚增 |
| 地址: | 中國臺灣桃園縣*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 承載 | ||
技術領域
本實用新型是與染布機有關,是在提供一種可降低織物的浴比,以大量節省染布時染液的用量的改良式承載布槽。
背景技術
按,長型染布機如依布匹運行的方式,可分為兩種一為導布管12在胴身11上方,如圖1所示,一般稱之為上走式染布機。而另一種導布管12在胴身11下方,則如圖2所示,一般稱之為下走式染布機。
現有的長型染布機無論是屬于何種形式,其胴身11底部設有承載布槽13,如圖3所示,該承載布槽13是盛裝有染液14,使織物20通過導布管12后可隨即進入承載布槽13底層的染液14中進行水浴處理以穩定其染劑。
而為了讓織物20均能沉浸于染液14內,使得其染液14需裝填至足以供織物20之浸泡高度H1;該承載布槽13底部的斷面是為呈一平面狀,而該胴身11底部的斷面為呈一圓弧狀,其圓弧狀凹陷斷面仍需由染液14加以填滿,但其織物因受該承載布槽13的承載,而無法浸泡至圓弧狀凹陷斷面中的染液14范圍中,因此將造成染液14使用的浪費,致針對此一缺失,而有必要再加以改良,以求盡善盡美。
實用新型內容
有鑒于此,本實用新型即在提供一種可降低織物的浴比,以大量節省染布時染液的用量的改良式承載布槽,為其主要目的。
為達到上述目的,本實用新型的改良式承載布槽是設于一染布機的胴身底部,用以承載染液,并可供織物通過;其中,該承載布槽的底部是朝胴身底部凹伸有下沉部。
當織物承置于該承載布槽時,利用該下沉部的設置可讓織物下沉接近該胴身底部,以大為降低染液的用量。
依據上述主要結構特征,所述的下沉部可以為U型結構體。
上述的U型結構體可以為一弧面形式;或者可以為多個弧面相互連接而成;或者可以為多個平面相互連接而成。
依據上述主要結構特征,所述的下沉部可以為W型結構體。
上述的W型結構體可以為弧面形式;或者可以為多個平面相互連接而成。
依據上述主要結構特征,所述的W型結構體頂面的中央處進一步設有一隔板,而將該承載布槽分為兩個空間以供兩條織物通過,而可在同一時間內,進行對二條織物的染色工作,大幅增加染色的效率。
依據上述主要結構特征,所述的承載布槽設有多個排水孔。
本實用新型的有益效果是:所述一種承載布槽是設于一染布機的胴身底部,用以承載染液,并可供織物通過;其中,該承載布槽的底部是朝胴身底部凹伸有下沉部,當織物承置于該承載布槽時,利用該下沉部的設置可讓織物下沉接近該胴身底部,以大為降低染液的用量。
附圖說明
圖1是一般上走式染布機的結構示意圖。
圖2是一般下走式染布機的結構示意圖。
圖3是現有承載布槽的使用配置參考圖。
圖4是本實用新型中承載布槽一較佳實施例的使用配置參考圖。
圖5是本實用新型中承載布槽第二實施例的使用配置參考圖。
圖6是本實用新型中承載布槽第三實施例的使用配置參考圖。
主要組件符號說明
浸泡高度H1????????浸泡高度H2
胴身11????????????導布管12
承載布槽13????????染液14
織物20????????????承載布槽30
下沉部31??????????隔板32
具體實施方式
本實用新型的特點,可參閱本案圖式及實施例的詳細說明而獲得清楚地了解。
如圖4本實用新型承載布槽一較佳實施例的使用配置參考圖所示,本實用新型的改良式承載布槽30主要設于染布機的胴身11底部,用以承載染液14,并可供織物20通過。
其中,該承載布槽30的底部是朝胴身11底部凹伸有下沉部31,使該承載布槽30底部更為接近該胴身11底部,如圖所示的實施例中,該下沉部31可以為W型結構體,且可以為弧面形式所構成;當然,也可如圖5的第二實施例所示,可以為多個平面相互連接而成。
當織物20承置于該承載布槽30時,利用該下沉部31的設置可讓織物20下沉接近該胴身11底部,可降低該織物20的浸泡高度H2,可降低織物的浴比,以大量節省染布時染液的用量。
再者,該W型結構體形式的下沉部31頂面的中央處進一步設有一隔板32,而將該承載布槽30分為兩個空間以供兩條織物20通過,而可在同一時間內,進行對二條織物20的染色工作,大幅增加染色的效率;另外,該承載布槽也設有多個排水孔(圖未示),增加排水效能。
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