[實用新型]用于直流弧放電高密度等離子體發生裝置的放電腔室有效
| 申請號： | 201220266455.4 | 申請日： | 2012-06-07 |
| 公開（公告）號： | CN202697017U | 公開（公告）日： | 2013-01-23 |
| 發明（設計）人： | 芶富均 | 申請（專利權）人： | 芶富均 |
| 主分類號： | H05H1/26 | 分類號： | H05H1/26;H05H1/28 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 550000 貴州省貴*** | 國省代碼： | 貴州;52 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 直流 放電 高密度 等離子體 發生 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于直流弧放電高密度等離子體發生裝置的放電腔室，包括放電腔室，其特征在于：所述放電腔室由放電室和絕緣套設置于固定架上構成。
2.根據權利要求1所述的用于直流弧放電高密度等離子體發生裝置的放電腔室，其特征在于：所述固定架的外圓壁上設置有冷卻水進口和冷卻水出口；中心區域加工有氣體通道孔和環形水冷槽，環形水冷槽上設置有一隔板和凹形槽。
3.根據權利要求1所述的用于直流弧放電高密度等離子體發生裝置的放電腔室，其特征在于：所述固定架的上端面設置有一陰極定位孔，定位孔的底部設置有О型密封圈。
4.根據權利要求1所述的用于直流弧放電高密度等離子體發生裝置的放電腔室，其特征在于：所述的放電室采用絕緣耐高溫材料。
5.根據權利要求1所述的用于直流弧放電高密度等離子體發生裝置的放電腔室，其特征在于：所述的絕緣套采用的是聚四氟乙烯。
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