[實用新型]磁控濺射設備

有效

• 申請號: 201220261265.3
• 申請日: 2012-06-05
• 公開（公告）號: CN202626280U
• 公開（公告）日: 2012-12-26
• 發明（設計）人: 賀凡;肖旭東
• 申請（專利權）人: 中國科學院深圳先進技術研究院;香港中文大學
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 吳平

技術領域

本實用新型涉及磁控濺射技術，特別是涉及一種磁控濺射設備。

背景技術

濺射是指用高能粒子轟擊固體靶材表面，使得固體靶材表面的原子和分子與入射的高能粒子交換動能，從而從固體表面飛濺出來的現象。濺射出來的原子或原子團由于與高能粒子交換了動能，因此具有一定的能量，可以重新凝聚，其沉積在固體襯底表面上形成薄膜。

磁控濺射是指在實際應用中，在濺射中加入磁場，通過磁場來改變電子的運動方向，以此束縛和延長電子的運動軌跡的方法。磁控濺射可以提高電子對工作氣體離化的幾率，使得轟擊靶材的高能離子增多和轟擊基片的高能電子減少，從而電子的能量可以有效的得到利用。

磁控濺射法制備薄膜時，一般用氬氣作為濺射氣體。氬原子被離化后轟擊靶材，濺射出來的濺射粒子在襯底上沉積即可形成薄膜。在實際生產中，濺射粒子除了沉積到襯底上外，還有相當一部分散射到磁控濺射腔室的腔壁上沉積下來。由于濺射粒子與濺射腔室的金屬腔壁之間的結合力弱，濺射粒子轟擊到腔壁上時，之前沉積在腔壁上的就很容易脫落下來掉在腔室內形成碎渣，有些碎渣會掉落在靶材表面。掉落在靶材表面的碎渣會嚴重影響制備的薄膜的質量。

實用新型內容

基于此，有必要提供一種防止產生碎渣的磁控濺射設備。

一種磁控濺射設備，包括殼體、靶材、爐盤及多個擋板；所述殼體開設有反應腔；所述靶材收容于反應腔內并固定于所述殼體的內壁上；所述爐盤收容于反應腔內，所述爐盤固定于所述殼體的內壁并與所述靶材相對；所述多個擋板設置于所述殼體的內壁上，分布于所述爐盤的周圍。

在其中一個實施例中，所述多個擋板還分布于所述靶材的周圍。

在其中一個實施例中，所述多個擋板覆蓋除所述靶材和所述爐盤之外的所述殼體的內壁。

在其中一個實施例中，所述殼體的內壁上設有與所述擋板卡合連接的卡勾，所述擋板通過所述卡勾可拆卸設置在所述殼體的內壁。

在其中一個實施例中，所述擋板為玻璃擋板。

在其中一個實施例中，所述擋板為藍寶石擋板。

在其中一個實施例中，所述擋板為紅寶石擋板。

在其中一個實施例中，所述擋板為石英擋板。

在其中一個實施例中，所述擋板為聚甲基丙烯酸甲酯擋板。

在其中一個實施例中，所述擋板遠離所述殼體的的側面為粗糙面。

上述磁控濺射設備中，其反應腔內壁上設有擋板。擋板用來阻擋射向反應腔內壁的濺射粒子，并對濺射粒子進行沉積，防止其形成碎渣并掉落，影響反應腔內制備的薄膜的質量。

附圖說明

圖1為一實施例的磁控濺射設備的結構示意圖；

圖2為圖1所示磁控濺射設備的局部結構示意圖；

圖3為圖1所示擋板的結構示意圖。

具體實施方式

為了便于理解本實用新型，下面將參照相關附圖對本實用新型進行更全面的描述。附圖中給出了本實用新型的較佳實施方式。但是，本實用新型可以以許多不同的形式來實現，并不限于本文所描述的實施方式。相反地，提供這些實施方式的目的是使對本實用新型的公開內容理解的更加透徹全面。

需要說明的是，當元件被稱為“固定于”另一個元件，它可以直接在另一個元件上或者也可以存在居中的元件。當一個元件被認為是“連接”另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。本文所使用的術語“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及類似的表述只是為了說明的目的，并不表示是唯一的實施方式。

除非另有定義，本文所使用的所有的技術和科學術語與屬于本實用新型的技術領域的技術人員通常理解的含義相同。本文中在本實用新型的說明書中所使用的術語只是為了描述具體的實施方式的目的，不是旨在于限制本實用新型。本文所使用的術語“及／或”包括一個或多個相關的所列項目的任意的和所有的組合。

請參閱圖1，本實施例的磁控濺射設備100，包括殼體110、靶材130、爐盤150及多個擋板170。殼體110包括反應腔112，反應腔112中可進行磁控濺射法制備薄膜。本實施例中，反應腔112為長方體形，在其他實施例中，也可為橢球形。

靶材130收容于反應腔112內并固定于殼體的內壁114上。靶材130為板狀，包括濺射面132，濺射面132上濺射出濺射粒子（圖未示）。磁控濺射時，高能粒子（圖未示）轟擊靶材130，使得濺射面132的原子和分子等濺射粒子與入射的高能粒子交換動能，從而從濺射面132飛濺出來。