[實用新型]二極管酸處理后的震蕩沖洗裝置

有效

• 申請號: 201220259666.5
• 申請日: 2012-06-04
• 公開（公告）號: CN202570659U
• 公開（公告）日: 2012-12-05
• 發明（設計）人: 王永彬;王毅
• 申請（專利權）人: 揚州揚杰電子科技股份有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B13/00
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

技術領域

本實用新型涉及二極管，尤其涉及一種OJ（Open??Junction）二極管酸處理后的去離子水震蕩沖洗裝置。

背景技術

當前，OJ（Open?Junction）二極管的制造過程中，在酸處理后的沖洗工位，固定的沖水角度下，背向沖水方向的一側形成沖洗死角，同時導線與治具之間的結合縫隙中的化劑得不到充分清洗，被帶入后工序，成為二次污染源，殘留的可移動離子附著在芯片部位產生信賴性隱患。因此，在清洗過程中，需要消耗較多的酸洗液才能將二極管清洗干凈，清洗時間長，效率低。

實用新型內容

本實用新型針對以上問題，提供了一種同步導入高頻震蕩，使得二極管產生震動和軸向轉動，達到有效沖洗死角的二極管酸處理后的震蕩沖洗裝置。

本實用新型的技術方案是：所述二極管酸處理后設置在酸洗盤上，所述震蕩沖洗裝置包括底座、沖洗頭、水槽和震蕩裝置，所述酸洗盤設在所述水槽上，所述沖洗頭設在所述酸洗盤上方；

所述震蕩裝置設在所述水槽的一側，所述震蕩裝置包括振子、支架和彈簧，所述振子設在所述支架上部中間位置；

所述支架具有支撐板和立板，相互間構成L形；所述支撐板水平地設在所述水槽的內側、且高于所述水槽頂緣高度；所述酸洗盤的外側擱置在所述水槽的外側頂緣、內側擱置在所述支撐板朝向所述水槽的頂緣上，使得所述酸洗盤傾斜設在所述水槽和支撐板之間；

所述彈簧活動設在所述支撐板的下部。

????還包括限位機構，所述限位機構包括導向螺栓組件和一對限位板；所述導向螺栓組件穿過所述彈簧、連接所述支撐板；所述限位板具有水平的頂板，所述一對限位板設在所述支撐板的兩側、其頂板的底面貼合所述支撐板的頂面。

????所述支撐板朝向所述水槽的頂緣設有凸邊，所述凸邊為梯形，使得所述酸洗盤傾斜設置在所述凸邊上。

所述震蕩裝置的立板鉸接在底座上。

還包括限位槽，所述立板的底部設在所述限位槽內，用于限制所述支架前后移動。

????在所述酸洗盤的兩側設有凹槽或凸筋。

所述振子的震蕩頻率為5-15次/秒，振幅為0.1-0.5mm。

????所述酸洗盤的傾斜角度為5~30°。

本實用新型的震蕩裝置包括支架、振子和彈簧，振子在控制器控制下形成高頻震源，與彈簧、支架在水槽上實現高頻震蕩，其中振子的震動頻率和振幅是可調節的，以二極管在酸洗盤上可見的轉動時為恰當、效果最佳；支架的高度通過導向螺栓組件調節，避免支架和水槽剛性接觸帶來振幅的衰降，限位板的設置限制了支撐板的Z向的振動高度；限位槽或鉸接結構的設置，限制了支架X向的移動。本實用新型結構簡單、制造成本低，振動、沖洗效果明顯。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖，

圖2是圖1的右視圖，

圖3是本實用新型的優化實施方式一，

圖4是本實用新型的優化實施方式二，

圖5是本實用新型的優化實施方式三，

圖6是本實用新型中酸洗盤的工作狀態圖一，

圖7是本實用新型中酸洗盤的工作狀態圖二；

圖中1是沖洗頭，2是酸洗盤，20是凹槽，21是凸筋，3是振子，4是二極管，5是導向螺栓組件，6是支架，60是支撐板，601是凸邊，6011是上行斜坡，6012是下行斜坡，61是立板，7是限位板，70是頂板，81是限位槽，82是鉸接結構，9是彈簧，10是水槽；

圖中XYZ代表坐標系。

具體實施方式

本實用新型如圖1-2所示，所述二極管4酸處理后設置在酸洗盤2上，所述震蕩沖洗裝置包括底座、沖洗頭1、水槽10和震蕩裝置，所述酸洗盤2設在所述水槽10上，所述沖洗頭1設在所述酸洗盤2上方；

所述震蕩裝置設在所述水槽10的一側，所述震蕩裝置包括振子3、支架6和彈簧9，所述振子3設在所述支架6上部中間位置；

所述支架6具有支撐板60和立板61，相互間構成L形；所述支撐板60水平地設在所述水槽10的內側、且高于所述水槽10頂緣高度；所述酸洗盤2的外側擱置在所述水槽10的外側頂緣、內側擱置在所述支撐板60朝向所述水槽10的頂緣上，使得所述酸洗盤2傾斜設在所述水槽10和支撐板60之間；

所述彈簧9活動設在所述支撐板60的下部。