[實用新型]拋光機有效
| 申請號: | 201220248840.6 | 申請日: | 2012-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN202668308U | 公開(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發明(設計)人: | 冷志紅;蔡靈玲 | 申請(專利權)人: | 昆山明本光電有限公司 |
| 主分類號: | B24B29/02 | 分類號: | B24B29/02;B24B57/02 |
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| 地址: | 215325 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 拋光機 | ||
技術領域:
本實用新型涉及一種拋光機,尤其涉及一種防止晶片被吸附在拋光上模表面的拋光機。
背景技術:
在我們現有的技術中,用來對光學低通濾波器晶片進行拋光處理的拋光機,采用的是將需要拋光的晶片擺放在拋光下模上,通過內部電機帶動傳動軸轉動,從而帶動拋光下模呈行星運行模式轉動,通過拋光上模對晶片進行拋光處理,且,在拋光的過程中需要不斷的由彎管處注入拋光液,這樣,在完成拋光工序時,拋光后的晶片很容易由于拋光液的粘性導致晶片被粘接吸附在拋光上模的表面,從而影響拋光質量。
發明內容:
本實用新型解決的技術問題是提供一種有利于拋光液流動,并防止晶片被吸附在拋光上模表面的拋光機。
本實用新型解決其技術問題所采取的技術方案是:一種拋光機,包括電機、支架、彎管、拋光上模、拋光下模和工作臺,所述電機設置在支架的頂部,所述電機的伸出桿連接拋光上模,在拋光上模的上方設有拋光液進液機構,該拋光液進液機構主要包括沿伸出桿為軸心陣列分布的彎管,所述拋光下模設置在工作臺上,該拋光下模的中心套接有傳動軸,該傳動軸底部連接到工作臺內的電機,所述拋光上模的表面覆有一層拋光面板,在拋光面板上開設有凹槽,在所述拋光面板上還開設有通孔。
進一步的,為了方便拋光液的流動,所述凹槽是由橫向槽和豎向槽交錯組成的,且橫向槽和豎向槽的寬度相等。
更進一步的,為了有利于拋光液能全面進入到拋光上模和拋光下模之間,所述通孔的個數至少為五個,且所述通孔在拋光面板上的分布是無規律的。
本實用新型的有益效果是:本拋光機用于光學低通濾波器晶片的拋光處理,開設的凹槽防止完成拋光后的晶片吸附在拋光上模表面,且有利于拋光液的流動,很大程度上提高了晶片的拋光效果。
附圖說明:
下面結合附圖對本實用新型進一步說明。
圖1是本實用新型結構的示意圖;
圖2是本實用新型中拋光上、下模的示意圖;
圖3是本實用新型中拋光上模的表面示意圖。
圖中:1、電機??2、支架??3、彎管??4、拋光上模??41、拋光面板??42、凹槽??43、通孔??5、拋光下模??6、工作臺??7、傳動軸。
具體實施方式:
如圖1~3所示一種拋光機,包括電機1、支架2、彎管3、拋光上模4、拋光下模5和工作臺6,所述電機1設置在支架2的頂部,所述電機1的伸出桿連接拋光上模4,在拋光上模4的上方設有拋光液進液機構,該拋光液進液機構主要包括沿伸出桿為軸心陣列分布的彎管3,拋光液經由彎管3流入到拋光上模和拋光下模內,所述拋光下模5設置在工作臺6上,該拋光下模5的中心套接有傳動軸7,該傳動軸7底部連接到工作臺6內的電機,所述拋光上模4的表面覆有一層拋光面板41,在拋光面板41上開設有凹槽42,在所述拋光面板41上還開設有通孔43,該通孔43的主要作用是將拋光液更流暢的引到拋光上模和拋光下模之間。
進一步的,為了方便拋光液的流動,所述凹槽42是由橫向槽和豎向槽交錯組成的,且橫向槽和豎向槽的寬度相等。
更進一步的,為了有利于拋光液能全面進入到拋光上模和拋光下模之間,所述通孔43的個數至少為五個,且所述通孔43在拋光面板41上的分布是無規律的。
本拋光機用于光學低通濾波器晶片的拋光處理,開設的凹槽42防止完成拋光后的晶片被吸附在拋光上模表面,且有利于拋光液的流動,很大程度上提高了晶片的拋光效果。
需要強調的是,以上是本實用新型的較佳實施列而已,并非對此實用新型在外觀上作任何形式的限制,凡是依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾,均仍屬于本實用新型技術方案的范圍內。
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