[實用新型]一種電容觸控屏

有效

• 申請號: 201220238849.9
• 申請日: 2012-05-25
• 公開（公告）號: CN202615367U
• 公開（公告）日: 2012-12-19
• 發明（設計）人: 周琦;胡里程;黃理;沈勵;遲曉輝;陳奇
• 申請（專利權）人: 蕪湖長信科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107
• 代理人: 張小虹

技術領域

本實用新型涉及電容觸控屏結構。

背景技術

目前市場上生產的觸控屏主要是電容觸控屏，它主要分為表面式和投射式兩種，其中投射式又稱感應電容觸控屏，電容觸控屏機械結構簡單，且無需人工校正，采用矩陣結構，精確度很高，非常適合在便攜式電子產品上使用。因此電容觸摸屏占據了市場的主要份額，電容觸摸屏其昂貴的生產成本成為競爭的主要原因，為了減少生產成本，在原料價格不變的情況下，減少制程，提供有效產出成為減低成本的最大關鍵。

在電容觸控屏制程中，主要分為兩種制成結構：

雙面（DITO）結構的產品功能更好,結構更牢固。可靠性優秀。但缺點在制成難度高。專利容易沖突；

參見圖2，單面（SITO）結構成熟，制成簡單，但缺點在jumper大小，整體參數不易控制.外觀在某種意義上達不到客戶要求（外觀會存在跳躍導體圖層眩光產生“麻點”現象）。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是實現一種無“麻點”現象的單面（SITO）電容觸控屏結構，以及這種電容觸控屏的生產工藝。

為了實現上述目的，本實用新型采用的技術方案為：一種電容觸控屏，包括基板，布置于基板上的ITO圖層，覆蓋于ITO圖層外的絕緣架橋層，以及覆蓋于絕緣架橋層上方的跳躍導體圖層，所述的跳躍導體圖層上方覆蓋有用于遮擋金屬跳躍導體圖層眩光的黑膜圖層。

所述的ITO圖層、絕緣架橋層、跳躍導體圖層和黑膜圖層的圖案結構相同并相互重疊。

所述的黑膜圖層上覆蓋樹脂保護層，所述的基板背面依次設有防靜電ITO層和二氧化硅保護層。

本實用新型的優點在于利用該生產工藝制作觸摸屏的做黑膜（BM）制成曝光后只蝕刻不剝膜，既能達到低眩光，又能減少一道金屬光刻制程和剝離制程，提高產出良率。同時該電容觸控屏結構利用黑膜（BM）來遮擋跳躍導體圖層產生的高眩光，提高了外觀水平。

附圖說明

下面對本實用新型說明書中每幅附圖表達的內容及圖中的標記作簡要說明：

圖1為本實用新型電容觸控屏剖視圖；

圖2為傳統工藝電容觸控屏剖視圖；

上述圖中的標記均為：1、黑膜圖層；2、樹脂保護層；3、跳躍導體圖層；4、絕緣架橋層；5、ITO圖層；6、基板；7、防靜電ITO層；8、二氧化硅保護層；9、金屬線路。

具體實施方式

參見圖1可知，電容觸控屏設有玻璃基板6，基板一面設有ITO圖層5，基板6該面四周圍有金屬線路9，在ITO圖層每條線路外包裹有POC絕緣架橋層4，絕緣架橋層4外覆蓋有跳躍導體圖層3，跳躍導體圖層3可采用ITO或者金屬導電材料作為涂層，在跳躍導體圖層3外還覆蓋有黑膜（BM）圖層1，該黑膜圖層1用來遮擋金屬（mo/al/mo）跳躍導體帶來的眩光。上述I?TO圖層5、絕緣架橋層4、跳躍導體圖層3和黑膜圖層1的圖案結構相同并相互重疊構成電容觸控屏的觸控部。且跳躍導體圖層3和黑膜圖層1的圖案完全重疊，零偏移，有利高效的完全遮擋金屬（mo/al/mo）跳躍導體帶來的眩光。在觸控部覆蓋樹脂保護層2，基板6背面依次設有防靜電ITO層7和二氧化硅保護層8。

上述電容觸控屏的觸控部制造工藝如下：

a、采用真空磁控濺射方法鍍制ITO膜；

b、之后制作ITO圖層5，這里制作ITO圖層5為常規手段，即采用觸控屏的觸控部黃光光刻技術，對ITO膜進行涂布，烘烤，曝光、顯影，蝕刻，剝離工藝處理，制作成ITO圖層5；

c、之后在ITO圖層5上制作一層絕緣架橋層4，這里制作緣架橋層4也是常規手段，即采用觸控屏的觸控部黃光光刻技術，依次進行涂布，烘烤，曝光、顯影，硬烤工藝處理，制作絕緣架橋層4；

d、之后利用真空磁控濺射鍍膜機在制作好的絕緣架橋層4外鍍一層金屬導電材料或ITO材料，并在上述金屬導電材料或ITO材料外涂一層黑膜，然后使用傳統工藝中制作跳躍導體圖層3的掩膜板，并利用觸控屏的觸控部黃光光刻技術，將這層導電材料和黑膜制一起做成所需圖形，即制成跳躍導體圖層3和黑膜圖層1。該黃光光刻技術包括涂布，烘烤，曝光、顯影，蝕刻，僅去除跳躍導體圖層3傳統制作工藝中的剝離工藝，其他黃光光刻技術工藝步驟與制作跳躍導體圖層3傳統制作工藝相同，將原先兩個圖層制作工序合二為一，從而節約了制作步驟，也提高了產品質量。