[實用新型]一種多立柱人行道前置式日光溫室有效
| 申請號: | 201220233578.8 | 申請日: | 2012-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN202565853U | 公開(公告)日: | 2012-12-05 |
| 發明(設計)人: | 胡永軍;潘子龍;田素波;金國良;李小剛 | 申請(專利權)人: | 山東省壽光蔬菜產業集團有限公司 |
| 主分類號: | A01G9/14 | 分類號: | A01G9/14;A01G9/24 |
| 代理公司: | 濟南舜源專利事務所有限公司 37205 | 代理人: | 李江 |
| 地址: | 262700 山東省濰*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 立柱 人行道 前置 日光溫室 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種日光溫室,具體地說,涉及一種多立柱人行道前置式日光溫室,?屬于蔬菜溫室領域。
背景技術
目前,中國大多數日光溫室以土質墻體為圍護結構,建造時地面進行下挖,利用下挖的土壤構筑較厚的土質墻體,形成一種下沉式日光溫室。
在實現本發明過程中,發明人發現現有技術中至少存在以下問題,傳統的下沉式日光溫室,受栽培床下挖深度的影響,造成溫室前部栽培床面出現較長的遮蔭區,冬春季溫室前部栽培床見不到陽光,蔬菜會因溫度特別是地溫過低而出現“低溫障礙”,如黃瓜葉片黃化,不發根,地上莖粗短不往上長,植株不伸展,同時,溫室前底腳斜坡處的棚膜流滴問題突出:流滴導致溫室前底腳斜坡處濕度過大,深冬時地溫低、植株根系長勢受抑;很多病菌隨濺水傳播,致靠近溫室前底腳斜坡處的植株發病率明顯增大;流滴浸透溫室前底腳斜坡土層,一方面非常適宜各種病蟲害寄生的雜草滋生,另一方面也會讓溫室前底腳斜坡土層被浸透后坍塌。
實用新型內容
本實用新型要解決的技術問題是針對以上不足,提供一種多立柱人行道前置式日光溫室,克服了現有技術中溫室前部栽培床面采光率低、溫室前底腳斜坡處的棚膜流滴問題突出的缺陷,采用本實用新型的日光溫室后,具有合理利用溫室內的空間條件、將溫室棚膜滴水引流到室外的優點。
為解決以上技術問題,本實用新型采用以下技術方案:一種多立柱人行道前置式日光溫室,包括墻體、栽培床和棚架,墻體包括后墻體和兩側的山墻,其特征在于:所述棚架由拱梁和南北向設置的若干排立柱構成,拱梁的前端內側設有前底腳斜坡,前底腳斜坡的底部設有人行道,栽培床位于后墻體、兩側的山墻與人行道之間。
一種優化方案,所述前底腳斜坡的頂部沿東西向設有“V”型排水槽。
另一種優化方案,所述前底腳斜坡內側面設有傾斜的前混凝土廈板,人行道設置在前混凝土廈板的底部。
再一種優化方案,所述前底腳斜坡上設有“V”型排水槽。
進一步的優化方案,所述人行道與前混凝土廈板內側的距離為0?m,人行道的寬度為80cm,高于栽培床所在平面10?cm。
再進一步的優化方案,所述拱梁的前端固定在前基座上,拱梁的后端固定在后墻體的頂部,拱梁所在的平面垂直于地平面,拱梁所在的平面與后墻體所在的平面垂直。
更進一步的優化方案,所述若干排立柱設置在后墻體內側與拱梁前段之間并垂直于地平面。
一種具體的優化方案,所述靠近后墻體的一排立柱與后墻體下端內側的距離為0?m,立柱的頂端位于拱梁的最高處。
另一種具體的優化方案,所述后墻體內側墻面與栽培床平面的傾斜角為95°~100°,后墻體的內側面傾斜設置有50cm高的后混凝土廈板。
再一種具體的優化方案,所述前底腳斜坡的頂寬為15cm,前底腳斜坡的下底寬為20cm。
本實用新型采用以上技術方案后,與現有技術相比,具有以下優點:將人行道設置在溫室內的前底腳斜坡處,能夠充分合理地利用溫室內的空間條件,在不減少種植面積的前提下,有效地解決了冬季日光溫室南側蔬菜長勢差、產量低的問題;溫室前底腳斜坡上設置排水槽能夠將溫室棚膜滴水引流到棚外,有效地減少了留在溫室內的滴水量,改善了溫室前部的高濕環境,減少了病害,植株生長健壯,保證了全溫室蔬菜均衡生長。
下面結合附圖和實施例對本實用新型進行詳細說明。
附圖說明
附圖1是本實用新型實施例中日光溫室的結構示意圖;
圖中,
1-栽培床,2-后墻體,3-立柱,4-拱梁,5-前底腳斜坡,6-人行道,7-后混凝土廈板,8-混凝土基座,9-前混凝土廈板,10-排水槽。
具體實施方式
實施例1,如圖1所示,一種多立柱人行道前置式日光溫室,包括墻體和棚架,內跨為11~13?m。
墻體夯土而成,墻體包括后墻體2和兩側的山墻,后墻體2的一端連接一側的山墻,后墻體2的另一端連接另一側的山墻。
后墻體2在地平面以上的高度為3.4?m,后墻體2的下端厚度為4.0?m,后墻體2的上端厚度為1.8?m?,后墻體2內側墻面與栽培床1平面的傾斜角為95°~100°,貼合后墻體2內側面地面以上傾斜安裝50?cm高的后混凝土廈板7護坡,抹縫割直。
兩側山墻的山頂在地平面以上的高度分別為4.3?m。
棚架設置在由后墻體2與兩側的山墻圍城的空間上方,棚架由拱梁4和南北向設置的若干排立柱3構成,
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