[實(shí)用新型]一種去除單晶硅堝底料中石英的裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220224089.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-05-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN202766654U | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-03-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 潘永娥;崔巍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 寧夏隆基硅材料有限公司;銀川隆基硅材料有限公司;西安隆基硅材料股份有限公司;無(wú)錫隆基硅材料有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C30B15/00 | 分類(lèi)號(hào): | C30B15/00;C30B29/06 |
| 代理公司: | 西安弘理專(zhuān)利事務(wù)所 61214 | 代理人: | 羅笛 |
| 地址: | 755100 寧夏回*** | 國(guó)省代碼: | 寧夏;64 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 去除 單晶硅 堝底料中 石英 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于單晶硅制造技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種去除單晶硅堝底料中石英的裝置。
背景技術(shù)
目前,在處理直拉單晶硅堝底料時(shí),使用氫氟酸在室溫條件下浸泡去除堝底料粘附的石英,使其達(dá)到太陽(yáng)能級(jí)硅單晶原料的純度要求,從而有效利用這部分堝底料。
現(xiàn)有技術(shù)條件下,在使用氫氟酸浸泡過(guò)程中,由于室溫溫度過(guò)低,氫氟酸與堝底料反應(yīng)速度過(guò)慢,反應(yīng)周期長(zhǎng),工作效率低,且反應(yīng)時(shí)間過(guò)長(zhǎng)易發(fā)生副反應(yīng),堝底料的回收質(zhì)量差。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種去除單晶硅堝底料中石英的裝置,解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在的氫氟酸與堝底料中石英在室溫下反應(yīng)速度慢、周期長(zhǎng)、效率低的問(wèn)題。
本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是,一種去除單晶硅堝底料中石英的裝置,包括保溫筒,在保溫筒內(nèi)壁設(shè)置有加熱器,在保溫筒的外壁設(shè)有溫控顯示器,溫控顯示器與加熱器之間通過(guò)電控裝置連接;在保溫筒的內(nèi)底面上設(shè)置有底撐,在底撐上放置有反應(yīng)釜,反應(yīng)釜與加熱器同心分布;保溫筒安裝有上蓋板,反應(yīng)釜安裝有反應(yīng)釜蓋板。
本實(shí)用新型的有益效果是:
1)由于本實(shí)用新型中采用了保溫筒結(jié)構(gòu)的水浴加熱法,使得堝底料與氫氟酸的反應(yīng)溫度保持在一定范圍內(nèi),加快了反應(yīng)速度,反應(yīng)速率最佳,縮短了反應(yīng)時(shí)間,提高工作效率。
2)減少副反應(yīng)的發(fā)生。單晶硅堝底料與氫氟酸的反應(yīng)時(shí)間在常溫下由原來(lái)的25-35h縮短為5-10h,反應(yīng)時(shí)間的縮短,減少了副反應(yīng)的發(fā)生,提高去除石英后的硅料的品質(zhì)。
3)本實(shí)用新型的加熱器底部安裝有底撐,底撐中心有圓柱形定位樁,反應(yīng)釜底部設(shè)有與圓柱形定位樁相配合的內(nèi)凹圓型定位槽,這樣能使反應(yīng)釜實(shí)現(xiàn)居中,受熱均勻,加快堝底料與氫氟酸的反應(yīng)速度。
4)水浴加熱避免了直接加熱造成的反應(yīng)劇烈與溫度的不可控性,溫控顯示器能夠嚴(yán)格控制溫度,實(shí)現(xiàn)平穩(wěn)均勻加熱。
5)加熱功率及時(shí)間都是在溫控顯示器上操作,操作簡(jiǎn)單方便、安全。
6)反應(yīng)釜采用聚四氟乙烯(PTFE)材料制作,耐酸性強(qiáng),使用壽命長(zhǎng)。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型去除單晶硅堝底料中石英的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型裝置中的保溫筒底部的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為堝底料與氫氟酸的反應(yīng)速率與溫度曲線圖;
圖4是使用本實(shí)用新型裝置和現(xiàn)有技術(shù)的反應(yīng)時(shí)間對(duì)比統(tǒng)計(jì)示意圖。
圖中,1.上蓋板,2.反應(yīng)釜蓋板,3.反應(yīng)釜,4.保溫筒,5.加熱器,6.溫控顯示器,7.底座,8.底撐,9.上蓋板鎖扣,10.上蓋板接耳。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
參照?qǐng)D1、圖2,本實(shí)用新型是一種去除單晶硅堝底料中石英的裝置,其結(jié)構(gòu)是,包括保溫筒4,在保溫筒4內(nèi)壁或內(nèi)底面設(shè)置有加熱器5,在保溫筒4的外壁設(shè)有溫控顯示器6,溫控顯示器6與加熱器5之間通過(guò)電控裝置連接,另外,溫控顯示器6的面板上還安裝有水位計(jì);在保溫筒4的內(nèi)底面上設(shè)置有底撐8,在底撐8上放置有反應(yīng)釜3,反應(yīng)釜3與加熱器5同心分布,反應(yīng)釜3與保溫筒4的容積比為1∶2-5(優(yōu)選容積比為1∶3);保溫筒4安裝有上蓋板1(外層蓋板),反應(yīng)釜3安裝有反應(yīng)釜蓋板2(內(nèi)層蓋板),反應(yīng)釜蓋板2為聚丙烯塑料蓋板,無(wú)色透明且工作狀態(tài)下與反應(yīng)釜3密封扣合;在保溫筒4的外底部安裝有底座7。
反應(yīng)釜3材料采用耐酸的聚四氟乙烯(PTFE)制作。
加熱器5為水浴加熱器形式,加熱器5采用筒狀陶瓷纖維加熱器結(jié)構(gòu),環(huán)形固定安裝于保溫筒4內(nèi)壁表面;加熱器5還可以采用圓盤(pán)狀加熱器結(jié)構(gòu),同心固定安裝于保溫筒4的內(nèi)底面上。
保溫筒4的上沿高出反應(yīng)釜3的上沿10-20cm,以方便反應(yīng)釜3放入保溫筒4中,不受合蓋的影響,否則影響反應(yīng)釜蓋蓋。加熱器5的上沿低于或平于保溫筒4的上沿。
溫控顯示器6的面板上裝有與保溫筒4內(nèi)腔連通的水位計(jì),當(dāng)保溫筒4內(nèi)加入自來(lái)水后會(huì)在溫控顯示器6的面板上的水位計(jì)顯示當(dāng)前水位,通過(guò)觀察控制加入水量。
保溫筒4內(nèi)設(shè)置有底撐8,用來(lái)支撐反應(yīng)釜3,該反應(yīng)釜3底部設(shè)有內(nèi)凹圓型定位槽,底撐8中心有圓柱形定位樁,安裝時(shí)將反應(yīng)釜下方底部的內(nèi)凹圓型定位槽對(duì)準(zhǔn)底撐中心的圓柱形定位樁,即可實(shí)現(xiàn)底撐8的定位安裝,使反應(yīng)釜3居中,受熱均勻。
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