[實(shí)用新型]一種高分子中空膜嫁接裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220222102.4 | 申請日: | 2012-05-17 |
| 公開(公告)號: | CN202556708U | 公開(公告)日: | 2012-11-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 不公告發(fā)明人 | 申請(專利權(quán))人: | 杜丕斌 |
| 主分類號: | B29C47/00 | 分類號: | B29C47/00;B29C47/08;B29C47/12 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高分子 中空 嫁接 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及對材料進(jìn)行良性處理的裝置,尤其涉及一種高分子中空膜嫁接裝置。
背景技術(shù)
原始的高分子中空嫁接技術(shù)一般考慮親水型嫁接,即在高分子溶解條件下高分子基團(tuán)斷鏈或斷鍵的情況嫁接羥基,這么傳統(tǒng)的嫁接方式不能使生產(chǎn)的高分子中空纖維膜能親烴且不能雙向滲透,濃度達(dá)不到動態(tài)平衡。
實(shí)用新型內(nèi)容
為解決上述問題,本實(shí)用新型旨在提供一種能夠使高分子在熔融條件下既能增壓斷裂又在此瞬間實(shí)現(xiàn)基團(tuán)嫁接。使生產(chǎn)的中空纖維膜能親烴且能雙向滲透,故而能達(dá)到所要求的濃度的動態(tài)平衡的高分子中空膜嫁接裝置。
本實(shí)用新型高分子中空膜嫁接裝置,包括高分子中空膜成型流道、嫁接態(tài)基團(tuán)氣體管、上模頭、下模頭、上大錐,下小錐,在所述高分子中空膜成型流道的上方套入所述上模頭,在所述中空膜成型流道的下方套入所述下模頭,在所述上模頭安裝所述上大錐,在所述下模頭安裝所述下小錐,所述上大錐與所述下小錐對接組成模芯,將所述嫁接態(tài)基團(tuán)氣體管接入所述上大錐,在所述下小錐底設(shè)置模口。
本實(shí)用新型與以前技術(shù)相比具有以下有益效果:能夠使高分子在熔融條件下既能增壓斷裂又在此瞬間實(shí)現(xiàn)基團(tuán)嫁接,使生產(chǎn)的中空纖維膜能親烴且能雙向滲透,故而能達(dá)到所要求的濃度的動態(tài)平衡,真實(shí)的反應(yīng)油中H2,CH4,C2H6,C2H2,CO,CO2的真實(shí)濃度參量。
附圖說明
圖一為本實(shí)用新型高分子中空膜嫁接裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的描述。
在圖1中,本實(shí)用新型高分子中空膜嫁接裝置,包括高分子中空膜成型流道1、嫁接態(tài)基團(tuán)氣體管2、上模頭3、下模頭4、上大錐5,下小錐6,在所述高分子中空膜成型流道1的上方套入所述上模頭3,在所述中空膜成型流道1的下方套入所述下模頭4,在所述上模頭3安裝所述上大錐5,在所述下模頭4安裝所述下小錐6,所述上大錐5與所述下小錐6對接組成模芯,將所述嫁接態(tài)基團(tuán)氣體管2接入所述上大錐5,在所述下小錐6底設(shè)置模口7。
本高分子中空膜嫁接裝置以按目標(biāo)需要加入擠塑機(jī)的高分子材料,以擠塑機(jī)熔融擠出壓力在裝置中集聚使之每平方厘米達(dá)到7KG,移動壓力每平方厘米達(dá)到0.2KG,溫度達(dá)到高分子材料分子鍵開始斷裂的361℃、漂移溫度0.5℃時,將高分子材料PFA通入高分子中空膜成型流道1進(jìn)行改性嫁接使之達(dá)到親烴目的,并形成中空纖維膜的嫁接成型。
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