[實(shí)用新型]氣體激光器及其放電腔

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220209759.7
• 申請(qǐng)日: 2012-05-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN202872165U
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-04-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉斌;丁金濱;張立佳;趙江山;周翊;王宇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院光電研究院
• 主分類號(hào): H01S3/03
• 分類號(hào): H01S3/03;H01S3/036;H01S3/22
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 宋焰琴

1.一種用于氣體激光器的放電腔，該放電腔內(nèi)具有放電電極和風(fēng)機(jī)，所述風(fēng)機(jī)驅(qū)動(dòng)所述放電腔內(nèi)的氣體經(jīng)過(guò)所述放電電極而進(jìn)行流動(dòng)，從而形成一個(gè)主氣流，在所述主氣流的流道的兩側(cè)存在凹陷區(qū)，其特征在于，在所述主氣流的流道兩側(cè)設(shè)置有微流道，所述微流道具有用于氣體流入的入口和用于氣體流出的出口，所述入口位于所述主氣流的下游，所述出口朝向所述凹陷區(qū)。

2.如權(quán)利要求1所述的用于氣體激光器的放電腔，其特征在于，在所述放電電極的兩側(cè)設(shè)置有導(dǎo)流板，所述微流道設(shè)置有所述導(dǎo)流板上，并且所述微流道的出口朝向所述導(dǎo)流板與所述放電電極之間的間隙。

3.如權(quán)利要求2所述的用于氣體激光器的放電腔，其特征在于，所述放電腔內(nèi)還包括有一個(gè)預(yù)電離裝置，其支撐于所述導(dǎo)流板與所述放電電極之間，所述微流道的出口朝向該預(yù)電離裝置。

4.如權(quán)利要求3所述的用于氣體激光器的放電腔，其特征在于，所述放電電極包括陰極和陽(yáng)極，在所述陰極和/或陽(yáng)極的位于所述主氣流的下側(cè)一側(cè)的導(dǎo)流板上設(shè)置所述微流道。

5.如權(quán)利要求1所述的用于氣體激光器的放電腔，其特征在于，所述微流道是一個(gè)槽群，所述槽群是指多個(gè)平行排列的凹槽。

6.如權(quán)利要求5所述的用于氣體激光器的放電腔，其特征在于，所述凹槽之間具有隔板，所述預(yù)電離裝置支撐于所述隔板上。

7.如權(quán)利要求5所述的用于氣體激光器的放電腔，其特征在于，所述凹槽的寬度不低于10mm，深度不小于3mm，相鄰凹槽間的距離不大于2mm。

8.如權(quán)利要求1所述的用于氣體激光器的放電腔，其特征在于，所述微流道是環(huán)肋或者通孔。

9.一種氣體激光器，其特征在于，包括權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的放電腔。

10.如權(quán)利要求9所述的氣體激光器，該氣體激光器是準(zhǔn)分子激光器。