[實用新型]可主動驅動的懸浮基盤拋光裝置

有效

• 申請號: 201220202776.8
• 申請日: 2012-05-07
• 公開（公告）號: CN202592197U
• 公開（公告）日: 2012-12-12
• 發明（設計）人: 文東輝;潘國慶;馬利;冷巧輝
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: B24B37/00
• 分類號: B24B37/00
• 代理公司: 杭州天正專利事務所有限公司 33201
• 代理人: 王兵;黃美娟

1.可主動驅動的懸浮基盤拋光裝置，包括主動驅動研磨傳動裝置、懸浮基盤、修正環和研磨盤，所述主動驅動研磨傳動裝置與所述修正環固定連接且帶動所述修正環旋轉；所述修正環通過固定件固定在所述研磨盤上且能繞固定中心線轉動；所述懸浮基盤卡在所述修正環內，其特征在于：所述懸浮基盤沿圓周方向設有多個楔形槽，所述楔形槽中充滿拋光液；所述修正環帶動所述懸浮基盤回轉運動，所述懸浮基盤在回轉運動下產生液體動壓使工件浮起，所述的工件與拋光液磨料相接觸。

2.如權利要求1所述的可主動驅動的懸浮基盤拋光裝置，其特征在于：所述懸浮基盤的外徑與所述修正環的內徑相同。