[實(shí)用新型]一種垂直連續(xù)電鍍設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220187258.3 | 申請日: | 2012-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN202626320U | 公開(公告)日: | 2012-12-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄧高榮 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州明毅電子機(jī)械有限公司 |
| 主分類號: | C25D7/04 | 分類號: | C25D7/04;C25D19/00 |
| 代理公司: | 廣州知友專利商標(biāo)代理有限公司 44104 | 代理人: | 周克佑 |
| 地址: | 510470 廣東省廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 垂直 連續(xù) 電鍍 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種電鍍設(shè)備,更具體地說是一種垂直連續(xù)電鍍設(shè)備。
背景技術(shù)
隨著信息科技的不斷發(fā)展,電子產(chǎn)品的微型化,高集成化的程度越來越高,HDI板市場不斷發(fā)展,HDI孔的加工也由簡單的盲埋孔發(fā)展到目前的高階埋孔板。如圖1所示,目前從盲孔底部向上的填孔機(jī)制主要為:為了以連續(xù)性高質(zhì)量銅電鍍填滿盲孔,盲孔內(nèi)的鍍銅速率必須比其它地方快,以免開口處提前閉合,導(dǎo)致填孔空眼或處裂縫的生成,從盲孔底部向上的加速填孔歸因于有機(jī)添加劑系統(tǒng)的作用;由抑制劑在銅的表面形成阻礙層,由于抑制劑的高濃度,這層膜均勻的生成在所有的位置,從而可以保證在填滿孔的基礎(chǔ)上,盡量使板面銅鍍的薄一些從而有利于埋孔工序的實(shí)現(xiàn);通過在盲孔中增加光澤劑實(shí)現(xiàn)底部加速填滿作用,由于孔底表面還漸縮小,使得光澤劑壓縮在狹小的表面積上,此一局部高濃度的光澤劑加速了盲孔內(nèi)的電鍍速率從而可以保證在使板件而銅鍍的較薄的情況下,實(shí)現(xiàn)埋孔鍍銅;并通過平整劑抑制盲孔轉(zhuǎn)角的電鍍速率,從而實(shí)現(xiàn)從盲孔底部向上的填孔機(jī)制,防止出現(xiàn)埋孔不良,如:空眼,縫隙等不良產(chǎn)品。
對電鍍埋孔質(zhì)量改善的一個(gè)方式是對上述埋孔機(jī)制中涉及到的化學(xué)成份進(jìn)行改進(jìn),目前電鍍設(shè)備制造商正與藥水商積極合作,致力于高質(zhì)量埋孔技術(shù)的發(fā)展,但這確不是能一蹴即就的,而從其它影響電鍍埋孔質(zhì)量的因素入手進(jìn)行改善,則是目前所能做到而且是急切需要做到的。
而影響電鍍埋孔質(zhì)量的主要因素出化學(xué)成份外,還包括物理成份和板件因素。其中,物理成份包括:陽極類型,陰陽極的距離,電流密度,藥水溫度,能在板面上產(chǎn)生沖擊式流動的噴嘴等因素;板件因素主要包括:介質(zhì)層材料,孔徑大小,徑深比,化學(xué)鍍銅層,及填孔前處理的微蝕,酸洗效果。
其中,從化學(xué)鍍銅層著手改善電鍍埋孔質(zhì)量的方式主要是:在鍍銅埋孔之前,若孔壁均勻且平整,無面銅凸懸及??椡钩?,可促進(jìn)晶種持續(xù)地生成及強(qiáng)化后續(xù)的埋孔表現(xiàn)。因此板件產(chǎn)品商在鍍銅埋孔之前會對產(chǎn)品進(jìn)行化學(xué)鍍銅層處理,即會先在產(chǎn)品表面鍍一層較薄的銅,以保證盲孔孔壁的均勻平整,增強(qiáng)后續(xù)鍍銅埋孔能力。
如圖2所示,若客戶采用傳統(tǒng)設(shè)備直接進(jìn)行埋孔鍍銅時(shí),因盲孔孔壁不夠均勻平整,會影響埋孔鍍銅質(zhì)量,產(chǎn)生較多空孔,縫隙等不良產(chǎn)品。為解決采用傳統(tǒng)設(shè)備不良品多的問題,現(xiàn)有技術(shù)中,客戶會在產(chǎn)品埋孔鍍銅前,先在其它設(shè)備上進(jìn)行表面鍍銅處理,即在板件表面先鍍一層較薄的鍍銅層,稱為板鍍,以獲得均勻平整的盲孔內(nèi)壁,提高后續(xù)鍍銅埋孔能力,能夠提高后續(xù)設(shè)備埋孔表現(xiàn)。
現(xiàn)有技術(shù)的從化學(xué)鍍銅層著手改善電鍍埋孔質(zhì)量的方式主要存在以下缺點(diǎn):
1、在對板件進(jìn)行埋孔處理時(shí),需先在一種鍍銅設(shè)備上進(jìn)行鍍銅層處理,再對其進(jìn)行埋孔處理。增加了客戶設(shè)備數(shù)量,增加了生產(chǎn)工序,加大了客戶的生產(chǎn)成本。
2、因鍍銅處理與埋孔鍍銅在兩種設(shè)備上進(jìn)行,拉長了鍍銅處理與埋孔鍍銅的時(shí)間差,打斷了同種產(chǎn)品生產(chǎn)的連續(xù)性。更易造成板件表面的污染及氧化,為后序埋孔鍍銅的前處理工序增加了難度。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種垂直連續(xù)電鍍設(shè)備,能夠提高產(chǎn)品電鍍加工的連續(xù)性和電鍍埋孔質(zhì)量,降低加工成本。
本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)措施實(shí)現(xiàn)的:
一種垂直連續(xù)電鍍設(shè)備,包括設(shè)備機(jī)架,所述設(shè)備機(jī)架上設(shè)置有用于對鍍件進(jìn)行鍍前處理的前處理槽、用于對鍍件進(jìn)行埋孔鍍銅處理的埋孔鍍銅槽、用于對鍍件進(jìn)行鍍銅后處理的后處理槽和用于運(yùn)送鍍件的移送裝置,其特征在于所述的設(shè)備機(jī)架上還設(shè)置有用于對鍍件進(jìn)行閃鍍處理的閃鍍槽,所述移送裝置將在所述前處理槽進(jìn)行鍍前處理后的鍍件,先運(yùn)送到所述閃鍍槽進(jìn)行閃鍍處理,再送到所述埋孔鍍銅槽進(jìn)行埋孔鍍銅處理,最后送到所述后處理槽進(jìn)行后期處理。
為了減小本實(shí)用新型垂直連續(xù)電鍍設(shè)備的占地面積,所述前處理槽、閃鍍槽、埋孔鍍銅槽和后處理槽沿矩形路徑依次設(shè)置在所述設(shè)備機(jī)架上。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型具有以下有益效果:
(1)本實(shí)用新型的垂直連續(xù)電鍍設(shè)備在埋孔鍍銅前,先采用閃鍍槽對鍍件進(jìn)行閃鍍工序,這樣減少了客戶的生產(chǎn)工序,而無需在另外一種設(shè)備上先鍍一層銅再進(jìn)行埋孔鍍銅。
(2)本實(shí)用新型的垂直連續(xù)電鍍設(shè)備無需其它設(shè)備的配合,節(jié)約了客戶廠房用地,無需擺放兩種或多種設(shè)備。
(3)本實(shí)用新型的垂直連續(xù)電鍍設(shè)備集鍍銅前處理、閃鍍、埋孔鍍銅、鍍銅后處理等功能于一身,增加了客戶生產(chǎn)的連續(xù)性,因鍍銅處理與埋孔鍍銅相隔時(shí)間較短,大大減少了板面出現(xiàn)的氧化,被污染問題,減輕了埋孔鍍銅的前處理工序。
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