[實用新型]變焦透鏡和成像設備有效
| 申請號： | 201220181573.5 | 申請日： | 2012-04-25 |
| 公開（公告）號： | CN202600322U | 公開（公告）日： | 2012-12-12 |
| 發明（設計）人： | 周曉東;柳在健 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/29 | 分類號： | G02F1/29 |
| 代理公司： | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人： | 王瑩 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 變焦 透鏡 成像 設備 | ||
1.一種變焦透鏡，其特征在于，包括：第一電極、第二電極和電控雙折射晶體層，其中所述第一電極和所述第二電極分別設置于所述電控雙折射層的兩側，在所述第一電極和所述第二電極之間形成的電場的作用下，所述電控雙折射晶體層對通過所述變焦透鏡的光線進行折射。
2.根據權利要求1所述的變焦透鏡，其特征在于，所述第一電極的寬度小于所述第二電極的寬度。
3.根據權利要求1所述的變焦透鏡，其特征在于，通過所述變焦透鏡的光線的入射方向與所述第一電極和第二電極之間形成的電場方向平行。
4.根據權利要求1所述的變焦透鏡，其特征在于，所述第一電極和所述第二電極均為透明電極。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的變焦透鏡，其特征在于，所述電控雙折射晶體層由磷酸二氫鉀晶體材料制成。
6.根據權利要求5所述的變焦透鏡，其特征在于，所述電控雙折射晶體層各處的厚度相同。
7.根據權利要求6所述的變焦透鏡，其特征在于，所述電控雙折射晶體層呈凸透鏡狀。
8.根據權利要求1所述的變焦透鏡，其特征在于，通過所述變焦透鏡的光線的入射方向與所述第一電極和第二電極之間形成的電場方向垂直。
9.根據權利要求8所述的變焦透鏡，其特征在于，所述電控雙折射晶體層由鈮酸鋰晶體材料制成。
10.根據權利要求9所述的變焦透鏡，其特征在于，所述電控雙折射晶體層各處的厚度相同。
11.一種成像設備，其特征在于，包括上述權利要求1-10中任一項所述的變焦透鏡。
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