[實(shí)用新型]一種發(fā)光假山盆景有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220177198.7 | 申請日: | 2012-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN202541187U | 公開(公告)日: | 2012-11-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高曲煌 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市高山水園林環(huán)境藝術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | B44C5/06 | 分類號: | B44C5/06 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 溫旭 |
| 地址: | 518067 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 發(fā)光 假山 盆景 | ||
1.一種發(fā)光假山盆景,包括假山模型,其特征在于:還包括覆蓋在所述假山模型表面的發(fā)光層。
2.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光假山盆景,其特征在于:所述發(fā)光層為熒光粉層。
3.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光假山盆景,其特征在于:還包括覆蓋在所述發(fā)光層上的保護(hù)層。
4.如權(quán)利要求3所述的發(fā)光假山盆景,其特征在于:所述保護(hù)層為聚丙烯抗UV層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市高山水園林環(huán)境藝術(shù)有限公司,未經(jīng)深圳市高山水園林環(huán)境藝術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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