[實用新型]邊框架半逆作深基坑支護結構有效

申請號：	201220167962.2	申請日：	2012-04-19
公開（公告）號：	CN202689005U	公開（公告）日：	2013-01-23
發明（設計）人：	張瑾;魏建華;鄧繼明;楊律磊	申請（專利權）人：	蘇州工業園區設計研究院股份有限公司
主分類號：	E02D17/02	分類號：	E02D17/02
代理公司：	杭州天正專利事務所有限公司 33201	代理人：	王兵;黃美娟
地址：	215000 江蘇省蘇***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	邊框架半逆作深基坑支護結構
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【權利要求書】：

1.邊框架半逆作深基坑支護結構，包括鉆孔灌注樁、止水帷幕、豎向構件、設置節點的鋼筋混凝土橫梁、樓板，所述的豎向構件包括型鋼格構柱和鋼管混凝土柱，所述的鉆孔灌注樁和所述的止水帷幕設置在基坑內部的地下室外墻的外圍，且所述的止水帷幕位于最外側；其特征在于：所述的鉆孔灌注樁與所述的鋼筋混凝土橫梁通過灌注樁圍檁固定；所述的鉆孔灌注樁、豎向構件通過所述的鋼筋混凝土橫梁的節點連接，形成門式邊框架；所述的豎向構件與所述的鉆孔灌注樁之間設置配筋砌體剪力墻或鋼支撐，形成框架-剪力墻結構。

2.如權利要求1所述的邊框架半逆作深基坑支護結構，其特征在于：所述的豎向構件位于基坑內部沿地下室外墻周向的一至兩跨范圍內。

3.如權利要求2所述的邊框架半逆作深基坑支護結構，其特征在于：位于所述的外墻內部的所述的鋼筋混凝土橫梁和樓板設置垂直的止水片。?

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