[實(shí)用新型]晶粒的護(hù)膜裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220159280.7
• 申請(qǐng)日: 2012-04-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN202592832U
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-12-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃培峰;林道新;楊嘉彬;方聰賢
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 鉅侖科技股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B32B3/30
• 分類(lèi)號(hào): B32B3/30;B32B27/06;B32B7/12
• 代理公司: 北京泰吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11355
• 代理人: 張雅軍

1.一種晶粒的護(hù)膜裝置，用來(lái)保護(hù)數(shù)個(gè)晶粒，并包含；一個(gè)第一護(hù)膜單元及一個(gè)第二護(hù)膜單元，該第一護(hù)膜單元包括一個(gè)第一基材層，以及一個(gè)與該第一基材層結(jié)合的貼覆層，而該第二護(hù)膜單元是可撕離地和該第一護(hù)膜單元粘貼，并包括一個(gè)第二基材層，以及一個(gè)能和該第一護(hù)膜單元的貼覆層粘合的粘貼層；其特征在于：

該第一護(hù)膜單元的貼覆層具有一個(gè)貼靠網(wǎng)面，以及數(shù)個(gè)與該貼靠網(wǎng)面具有高度差的凹室。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶粒的護(hù)膜裝置，其特征在于：該第一護(hù)膜單元的貼覆層的貼靠網(wǎng)面具有數(shù)條彼此平行的第一凸條部，以及數(shù)條相互平行并與所述第一凸條部交叉設(shè)置的第二凸條部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶粒的護(hù)膜裝置，其特征在于：該第一護(hù)膜單元的貼覆層的貼靠網(wǎng)面與所述凹室的高度差是3μm-50μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶粒的護(hù)膜裝置，其特征在于：該第一護(hù)膜單元的貼覆層的貼靠網(wǎng)面與所述凹室的高度差是10μm-25μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的晶粒的護(hù)膜裝置，其特征在于：該第一護(hù)膜單元的貼覆層的貼靠網(wǎng)面的面積是該貼覆層的表面積的20-60％。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的晶粒的護(hù)膜裝置，其特征在于：該第一護(hù)膜單元還包括一個(gè)與該第一基材層結(jié)合的表層，該表層與該貼覆層分別位于該第一基材層的相反側(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的晶粒的護(hù)膜裝置，其特征在于：該第一護(hù)膜單元的第一基材層具有一個(gè)鄰近該表層的印刷面。