[實(shí)用新型]近單模準(zhǔn)漸變折射率大模場(chǎng)增益光纖有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220157268.2 | 申請(qǐng)日: | 2012-04-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN202522729U | 公開(公告)日: | 2012-11-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 段開椋;朱永剛;林傲祥;趙衛(wèi) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G02B6/02 | 分類號(hào): | G02B6/02 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211 | 代理人: | 姚敏杰 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 單模 漸變 折射率 大模場(chǎng) 增益 光纖 | ||
1.一種近單模準(zhǔn)漸變折射率大模場(chǎng)增益光纖,包括纖芯以及包裹于纖芯外部的包層,其特征在于:所述近單模準(zhǔn)漸變折射率大模場(chǎng)增益光纖還包括設(shè)置在纖芯和包層之間的環(huán)形增益區(qū)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的近單模準(zhǔn)漸變折射率大模場(chǎng)增益光纖,其特征在于:所述環(huán)形增益區(qū)是一系列同心的環(huán)形增益介質(zhì)層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的近單模準(zhǔn)漸變折射率大模場(chǎng)增益光纖,其特征在于:所述一系列同心的環(huán)形增益介質(zhì)層形成折射率準(zhǔn)漸變的非均勻布拉格結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利1或2或3所述的近單模準(zhǔn)漸變折射率大模場(chǎng)增益光纖,其特征在于:所述纖芯和環(huán)形增益區(qū)均是摻雜稀土離子的石英介質(zhì);所述摻雜稀土離子是鉺離子、鐿離子、銩離子、釹離子、鉺離子與鐿離子共摻或銩離子與鈥離子共摻。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的近單模準(zhǔn)漸變折射率大模場(chǎng)增益光纖,其特征在于:所述纖芯是一根或多根。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的近單模準(zhǔn)漸變折射率大模場(chǎng)增益光纖,其特征在于:所述纖芯是奇數(shù)根;所述奇數(shù)根纖芯相互平行;所述纖芯之間的距離處于1-20um之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的近單模準(zhǔn)漸變折射率大模場(chǎng)增益光纖,其特征在于:所述近單模準(zhǔn)漸變折射率大模場(chǎng)增益光纖還包括設(shè)置在包層外部用于限制泵浦光在包層內(nèi)傳輸?shù)牡驼凵渎释繉印?/p>
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201220157268.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種具有剝離功能的全光纖化的低損耗光纖模場(chǎng)匹配器
- 一種大模場(chǎng)雙包層光纖熔接的光功率對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)和方法
- 一種基于大模場(chǎng)光纖的單模高功率放大裝置
- 基于化學(xué)腐蝕法制備大模場(chǎng)光纖F-P傳感器的方法
- 一種光纖集成模塊以及微結(jié)構(gòu)光纖器件
- 一種大模場(chǎng)光子晶體光纖的低損耗、高強(qiáng)度熔接方法
- 一種新型大模場(chǎng)光纖
- 一種超低損耗的大模場(chǎng)光纖側(cè)面泵浦合束器及其制作方法
- 一種新型大模場(chǎng)光纖
- 一種基于全大模場(chǎng)光纖的皮秒種子激光器





