[實用新型]太陽能電池基片的硒化與硫化反應裝置有效
| 申請號: | 201220134354.1 | 申請日: | 2012-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN202576558U | 公開(公告)日: | 2012-12-05 |
| 發明(設計)人: | 錢青;龔立光 | 申請(專利權)人: | 英萊新能(上海)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/30 | 分類號: | C23C16/30;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/448 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 太陽能電池 硫化 反應 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種太陽能電池的生產設備,特別涉及一種銅銦鎵硒太陽能電池基片的硒化與硫化反應裝置。
背景技術
銅銦鎵硒太陽能電池具有生產成本低、污染小、不衰退、弱光性能好等顯著特點,光電轉換效率居各種薄膜太陽能電池之首,接近于晶體硅太陽能電池,而成本則是晶體硅電池的三分之一,被國際上稱為新型薄膜太陽能電池,但是其對工藝和制備條件的要求很高。
銅銦鎵硒薄膜太陽能電池采用鈉鈣玻璃,薄膜的形成有第一步,沉積鉬薄膜形成底電極;第二步,沉積銅銦鎵薄膜形成預制層;第三步,通過硒化與硫化反應生成銅銦鎵硒晶體;第四步,形成硫化鎘薄膜;第五步,形成頂點極薄膜。其中第三步的硒化與硫化反應而生成銅銦鎵硒晶體,是以上幾個步驟中最重要的一步。現有的銅銦鎵硒太陽能電池生產過程中進行硒化與硫化反應沒有專門的設備,各廠家都是根據其工藝條件制作相應的設備來實現硒化與硫化反應。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種太陽能電池基片的硒化與硫化反應裝置,滿足銅銦鎵硒薄膜太陽能電池生產過程中基片的硒化與硫化反應需要。
為實現上述目的,本實用新型的太陽能電池基片的硒化與硫化反應裝置,包括:外腔體,其設有用于基片進出的外腔體入口和外腔體出口,所述外腔體入口和外腔體出口上分別設有噴氣隔離裝置;位于所述外腔體內的反應腔體,其設有用于基片進出的反應腔體入口和反應腔體出口,所述反應腔體入口和反應腔體出口上分別設有噴氣隔離裝置,所述反應腔體上設有硒蒸汽管、硫蒸汽管和排清氣體輸送管;置于所述反應腔體外的多個加熱器;包覆在所述反應腔體外的熱反射層,所述加熱器位于所述反應腔體和熱反射層之間;以及輸送基片進出所述反應腔體的輸送機。
所述外腔體上設置有抽氣口。
采用本實用新型的太陽能電池基片的硒化與硫化反應裝置,可實現基片的硒化與硫化反應,確保硒化與硫化反應的工藝要求。采用本實用新型,還可以只用做硒化或硫化反應。
附圖說明
圖1為本實用新型的太陽能電池基片的硒化與硫化反應裝置的示意圖。
具體實施方式
參見圖1,本實用新型的太陽能電池基片的硒化與硫化反應裝置包括:
外腔體10,其設有用于基片100進出的外腔體入口和外腔體出口,所述外腔體入口和外腔體出口上分別設有噴氣隔離裝置11、12;
位于所述外腔體10內的反應腔體20,其設有用于基片100進出的反應腔體入口和反應腔體出口,所述反應腔體入口和反應腔體出口上分別設有噴氣隔離裝置21、22,所述反應腔體20上設有硒蒸汽管40、硫蒸汽管50和排清氣體輸送管60;
置于所述反應腔體20外的多個加熱器23;
包覆在所述反應腔體20外的熱反射層30,所述加熱器23位于所述反應腔體20和熱反射層30之間;以及
輸送基片100進出所述反應腔體20的輸送機101。
所述輸送機101可以由多個滾輪或滾柱構成,輸送機101穿過所述外腔體10和反應腔體20。輸送機101輸送基片100經過外腔體入口和反應腔體入口進入反應腔體20,完成硒化和硫化反應后,經過反應腔體出口和外腔體出口出來。外腔體10由金屬構成,如不銹鋼、碳鋼等。
所述硒蒸汽管40和硫蒸汽管50分別連接一硒蒸汽源42和硫蒸汽源52,分別用于向反應腔體20內輸送硒蒸汽和硫蒸汽。所述硒蒸汽管40和硫蒸汽管50上分別設有一調節閥41、51,可調節流量,或者在需要停止向反應腔體20內輸送硒蒸汽和/或硫蒸汽時可關閉相應的調節閥。所述排清氣體輸送管60用于輸入惰性氣體或氮氣,作用是在硒化反應和硫化反應切換時,排干凈反應腔體20內殘留的硒蒸汽或硫蒸汽。所述排清氣體輸送管60上設有調節閥61,可調節輸入氣體的流量。
所述噴氣隔離裝置11、12、21、22是由某種氣體在一定壓力和流量下排出,形成壓力氣膜,從而阻止外部氣體流入的機械結構,本實用新型的噴氣隔離裝置11、12、21、22采用氬氣或其它惰性氣體,也可采用氮氣,惰性氣體或氮氣通過減壓閥和流量調節計進入噴氣隔離裝置11、12、21、22,從噴氣隔離裝置11、12、21、22中流出的氣體阻礙了外部氣體進入到反應腔體20,從而保證了工藝環境的純度要求。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





