[實用新型]離子轟擊電接觸結構

有效

• 申請號: 201220130553.5
• 申請日: 2012-03-31
• 公開（公告）號: CN202595247U
• 公開（公告）日: 2012-12-12
• 發明（設計）人: 趙銘
• 申請（專利權）人: 廣東友通工業有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22
• 代理公司: 東莞市創益專利事務所 44249
• 代理人: 李衛平

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜技術領域，尤其是涉及真空鍍膜用的工件清洗離子轟擊電接觸結構。

背景技術

隨后出現有物理氣相沉積（PVD）技術，主要是在真空環境下進行表面處理，物理氣相沉積本身分為三種：真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜，近十年來發展相當快，已經成為當今最先進的表面處理方式之一。真空鍍膜生產是實現膜層附著在工件表面，以獲得需要的工件表面特性，然而，在實際生產時，工件表面都或多或少積累有污垢，這些污垢如不能有效除去，則會極大的影響膜層附著力，導致產品品質下降。因而需要進行清潔，但傳統的方式是采用人工擦洗，這不僅增加了勞動量和生產成本，且生產率低，存在清潔不徹底的缺陷。

隨后出現有利用離子轟擊工件表面，使工件表面的污垢離化，從而達到清潔的功效，而離子轟擊工作時的電源導通及斷開是由手動實現，存在不穩定性及不安全性。

為此，本申請人迎合市場發展的需求，秉持著研究創新、精益求精之精神，利用其專業眼光和專業知識，研究出一種適于產業利用的工件清洗離子轟擊電接觸結構。

發明內容

本實用新型的目的在于克服現有技術的缺陷，提供一種真空鍍膜用的工件清洗離子轟擊電接觸結構，結構簡單，成本低，動作穩定及安全。

為達到上述目的，本實用新型采用如下技術方案：

離子轟擊電接觸結構，其具有相互配合導通的第一接觸頭和第二接觸頭，所述第一接觸頭固定安裝在真空室門上，而第二接觸頭以可浮動式安裝在真空室主體上。

所述第一接觸頭和第二接觸頭均為銅柱體，兩接觸頭軸向對接導通，所述第二接觸頭的浮動方向與第一接觸頭和第二接觸頭所對接導通的軸線方向一致。

所述第二接觸頭上設有可實現第二接觸頭浮動狀態的壓縮彈簧，壓縮彈簧套接在第二接觸頭上。

所述第一接觸頭與真空室門之間有絕緣座絕緣分隔；所述第二接觸頭與真空室主體之間有絕緣套絕緣分隔。

本實用新型設計的真空鍍膜用的工件清洗離子轟擊電接觸結構，可實現真空室門合上后自動導通功效，由此滿足轟擊棒通電配合氬氣產生放電獲得等離子，并以等離子撞擊工件表面，使工件表面的污垢離化，從而達到清潔的功效，本實用新型結構簡單，科學合理，投資成本低，體積小巧，安裝、使用方便，動作穩定及安全。

附圖說明：

附圖1為本實用新型的較佳實施例結構示意圖。

具體實施方式：

以下結合附圖對本實用新型進一步說明：

參閱圖1所示，本實用新型所述的離子轟擊電接觸結構，其具有相互配合導通的第一接觸頭1和第二接觸頭2，第一接觸頭1和第二接觸頭2均為銅柱體，兩接觸頭通過軸向對接導通。所述第一接觸頭1固定安裝在真空室門3上，并在第一接觸頭1與真空室門3之間有絕緣座6絕緣分隔，防止漏電；而第二接觸頭2以可浮動式安裝在真空室主體4上，且第二接觸頭2與真空室主體4之間也有絕緣套7絕緣分隔，第二接觸頭2活動穿設于絕緣套7內中部。

本實施例中，所述第二接觸頭2的浮動方向與第一接觸頭1和第二接觸頭2所對接導通的軸線方向一致，由此達到關門時內縮避讓和確保第一接觸頭1和第二接觸頭2對接導通。圖1所示，所述第二接觸頭2上設有可實現第二接觸頭2浮動狀態的壓縮彈簧5，壓縮彈簧5套接在第二接觸頭2上。當真空室門3關閉時，壓縮彈簧5提供第二接觸頭2內縮避讓功能，由此可滿足第一接觸頭1和第二接觸頭2軸向對接導通之動作要求，同時在壓縮彈簧5的作用下，還可使第一接觸頭1和第二接觸頭2能緊密的軸向對接，不易松脫，導通穩定及安全，也就使離子轟擊電源與轟擊棒穩定的導通，提升工作效能和質量。

本實用新型設計的真空鍍膜用的離子轟擊電接觸結構，可實現真空室門合上后自動導通功效，由此滿足轟擊棒通電配合氬氣產生放電獲得等離子，并以等離子撞擊工件表面，使工件表面的污垢離化，從而達到清潔的功效，其結構簡單，科學合理，投資成本低，體積小巧，安裝、使用方便，動作穩定及安全。

當然，以上圖示僅為本實用新型的較佳實施例，并非以此限定本實用新型的實施范圍，故，凡是依照本實用新型之原理做等效變化或修飾，均應涵蓋于本實用新型的保護范圍內。