[實用新型]吸收體處理裝置有效
| 申請號: | 201220130352.5 | 申請日: | 2012-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN202594484U | 公開(公告)日: | 2012-12-12 |
| 發明(設計)人: | 篠原章 | 申請(專利權)人: | 尤妮佳股份有限公司 |
| 主分類號: | B65H35/06 | 分類號: | B65H35/06;B65H37/00;D06C23/02;D06H7/00 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 吸收體 處理 裝置 | ||
1.一種吸收體處理裝置,該吸收體處理裝置(1)包括對用具有沿規定的輸送方向移動的傳送帶(26)的傳送裝置(2)沿輸送方向輸送的吸收體(3)進行用于施加變形的處理的處理部件(4),其特征在于,該處理裝置(1)在所述處理部件(4)的輸送方向上游側設置有限制所述吸收體(3)在寬度方向上位移的一對引導部件(5),該一對引導部件(5)由第一導引板(6a)和第二導引板(6b)構成,
所述處理部件(4)與所述吸收體(3)的接觸部位同所述引導部件與所述吸收體(3)的接觸部位這兩個接觸部位之間在所述輸送方向上的距離比所述吸收體(3)在所述輸送方向上的長度短,
所述一對引導部件(5)至少沿所述吸收體的所述寬度方向端部的一部分配置,在所述寬度方向上夾著所述吸收體配置。
2.根據權利要求1所述的吸收體處理裝置,其特征在于,所述第一導引板(6a)和第二導引板(6b)包括擴口部分,所述第一導引板(6a)和第二導引板(6b)在所述寬度方向上的距離在輸送方向下游側等于或略大于所述吸收體(3)的寬度,所述第一導引板(6a)和第二導引板(6b)在所述寬度方向上的距離形成為隨著從所述輸送方向下游側朝向所述輸送方向上游側去變大。
3.根據權利要求1或2所述的吸收體處理裝置,其特征在于,所述處理部件包括在與所述輸送方向和所述寬度方向垂直的上下方向上相對置地配置的上處理輥和下處理輥,由該上處理輥和下處理輥對通過該上處理輥和下處理輥之間的所述吸收體進行所述處理;在所述處理部件的處理部(7)的上游側在上處理輥和下處理輥之間存在間隙,該間隙向上游側開口并且上下方向寬度朝向上游側變寬的情況下,所述第一導引板(6a)和第二導引板(6b)的靠所述處理部件(4)側的端部形成為隨著朝向所述處理部件(4)側去在所述上下方向上的尺寸逐漸變小的形狀,并以不與所述處理部件(4)相干涉的方式伸入到所述上處理輥和下處理輥之間的所述間隙中。
4.根據權利要求3所述的吸收體處理裝置,其特征在于,所述上處理輥是上壓花輥(421),所述下處理輥是下壓花輥(422),所述處理部件是通過使所述吸收體通過所述上壓花輥(421)和所述下壓花輥(422)之間對該通過的吸收體進行壓花加工的壓花裝置。
5.根據權利要求3所述的吸收體處理裝置,其特征在于,所述上處理輥是上壓輥,所述下處理輥是下壓輥,所述處理部件是對所述吸收體(3)進行滾壓的滾壓裝置,通過使所述吸收體通過所述上壓輥和所述下壓輥之間對該通過的吸收體(3)進行壓縮加工。
6.根據權利要求3所述的吸收體處理裝置,其特征在于,所述上處理輥是在外周面具有切斷刀的刀輥,所述下處理部件是具有與所述切斷刀相對配置的砧部件的砧輥,所述處理部件通過使由所述傳送裝置輸送的吸收體或構成吸收性物品的構件通過所述切斷刀與所述砧部件之間而將該通過的吸收體或構成吸收性物品的構件切斷。
7.根據權利要求1所述的吸收體處理裝置,其特征在于,還包括用于對所述第一導引板(6a)和所述第二導引板(6b)中的任一個進行驅動使所述第一導引板(6a)和所述第二導引板(6b)中的所述任一個在引導構件的引導下沿所述寬度方向位移的驅動機構。
8.根據權利要求1所述的吸收體處理裝置,其特征在于,還包括與所述第一導引板(6a)連接的用于驅動所述第一導引板(6a)使所述第一導引板(6a)在引導構件的引導下沿所述寬度方向位移的第一驅動機構,與所述第二導引板(6b)連接的用于驅動所述第二導引板(6b)使所述第二導引板(6b)在引導構件的引導下沿所述寬度方向位移的第二驅動機構。
9.根據權利要求7所述的吸收體處理裝置,其特征在于,所述驅動機構以使所述第一導引板和所述吸收體在寬度方向上的間隔與所述第二導引板和所述吸收體在寬度方向上的間隔為相同的距離的方式驅動所述第一導引板(6a)和所述第二導引板(6b)。
10.根據權利要求1所述的吸收體處理裝置,其特征在于,在所述處理部件的所述輸送方向上的下游側還設置有對由所述處理部件進行了處理的所述吸收體進行進一步處理的下游處理部件,在所述處理部件和所述下游處理部件之間設置有一對用于對由所述處理部件進行了處理的所述吸收體的所述寬度方向的位移進行限制的下游側導引部件。
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