[實用新型]具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201220129220.0
• 申請日: 2012-03-30
• 公開（公告）號: CN202626277U
• 公開（公告）日: 2012-12-26
• 發明（設計）人: 詹君;孫鳴洋;劉艾河
• 申請（專利權）人: 湖北山鷹光學有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/02
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;王錦陽

技術領域

本實用新型涉及光學鍍膜領域，尤其涉及具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置。

背景技術

光學鍍膜在光學儀器上應用非常廣泛，它是在光學零件表面上鍍上一層或多層光學薄膜的工藝過程，通過該工藝過程可以改變照射在光學零件上的光波的傳輸特性。

光學薄膜的制作通常采用物理蒸鍍法，就是將薄膜材料由固態轉化為氣態或離子態，氣態或離子態的薄膜材料從蒸發源到達待鍍件，在待鍍件上沉積而形成薄膜。并且，為了制作高純度的光學薄膜，通常采用真空鍍膜。所以，一般地，光學鍍膜的過程是：清洗待鍍件，將待鍍件放置在支撐待鍍件的物體上，送入鍍膜裝置，然后將鍍膜裝置抽成真空，在真空環境下對待鍍件進行鍍膜。上述的技術方案存在的缺點是，清洗待鍍件的環境不是真空環境，清洗后的待鍍件被送入鍍膜裝置之前會與外界環境接觸，這樣有可能使得待鍍件再度染上灰塵。

公開于該實用新型背景技術部分的信息僅僅旨在加深對本實用新型的一般背景技術的理解，而不應當被視為承認或以任何形式暗示該信息構成已為本領域技術人員所公知的現有技術。

實用新型內容

針對上述缺陷，本實用新型提供一種具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置。

本實用新型的具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置包括：真空間、用于承載待鍍件的轉盤、與所述待鍍件相對設置的蒸發源、支撐桿、通過所述支撐桿位于所述轉盤和所述蒸發源之間的遮板組、超聲波發生器和超聲波換能器；

其中，所述轉盤、所述蒸發源、所述支撐桿和所述遮板組均位于所述真空間內，所述超聲波發生器和所述超聲波換能器電連接，所述超聲波換能器和所述轉盤機械連接。

如上所述的具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置，其中，所述遮板組包括多個具有不同形狀的遮板，所述支撐桿伸出所述真空間。

如上所述的具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置，其中，還包括用于帶動所述支撐桿旋轉以在所述遮板組中選擇具有特定形狀的遮板的第一電機。

如上所述的具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置，其中，還包括用于帶動所述轉盤旋轉的第二電機，所述第二電機位于所述真空間外，并與所述轉盤機械連接。

如上所述的具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置，其中，所述轉盤位于所述真空間的上部，所述待鍍件位于所述轉盤的底面。

如上所述的具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置，其中，所述超聲波發生器和所述超聲波換能器都在真空間外。

使用本實用新型的具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置，可以除去待鍍件清洗之后送入鍍膜裝置之前染上的灰塵，保證鍍膜的質量。

通過納入本文的附圖以及隨后與附圖一起用于說明本實用新型的某些原理的具體實施方式，本實用新型的裝置所具有的其它特征和優點將變得清楚或更為具體地得以闡明。

附圖說明

圖1為本實用新型具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置的一實施例的結構圖；

圖2為本實用新型具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置的另一實施例中遮板組的放大圖；

圖3為本實用新型具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置的另一實施例的結構圖；

圖4為本實用新型具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置的另一實施例的結構圖。

應當了解，所附附圖并非按比例地顯示了本實用新型的基本原理的圖示性的各種特征的略微簡化的畫法。本文所公開的本實用新型的具體設計特征包括例如具體尺寸、方向、位置和外形將部分地由具體所要應用和使用的環境來確定。

在這些圖形中，貫穿附圖的多幅圖形，附圖標記引用本實用新型的同樣的或等同的部分。

具體實施方式

背景技術中提到現有技術中光學鍍膜的技術方案存在缺陷：待鍍件送入鍍膜裝置之前，會被輕度再污染，影響鍍膜的質量。因此，本實用新型設計了具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置以克服現有技術中的缺陷。

圖1為本實用新型具有超聲波除塵功能的光學鍍膜裝置的一實施例的結構圖，如圖1所示，該裝置包括：真空間1、用于承載待鍍件3的轉盤2、與待鍍件3相對設置的蒸發源4、支撐桿5、通過支撐桿5位于轉盤2和蒸發源4之間的遮板11遮板11組6、超聲波發生器7和超聲波換能器8。

其中，轉盤2、蒸發源4、支撐桿5和遮板11遮板11組6均位于真空間1內，超聲波發生器7和超聲波換能器8電連接，超聲波換能器8和轉盤2機械連接。