[實用新型]一種適用于制藥廢水處理的曝氣裝置

有效

• 申請號: 201220127810.X
• 申請日: 2012-03-30
• 公開（公告）號: CN202594848U
• 公開（公告）日: 2012-12-12
• 發明（設計）人: 苗育瑞;苗棟楨;賀裕鵬
• 申請（專利權）人: 山西萬源達科技有限公司
• 主分類號: C02F3/12
• 分類號: C02F3/12
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種適用于制藥廢水處理的曝氣裝置，所述曝氣裝置包括：上層曝氣盤片、下層曝氣盤片、曝氣盤片支撐托盤、固定螺紋接口、曝氣管道；具體連接關系如下：曝氣盤片支撐托盤，其一面設置有下層曝氣盤片，在下層曝氣盤片的上面設置有上層曝氣盤片，其中，下層曝氣盤片孔徑為d1，剛玉材質；上層曝氣盤片為一層，該上層曝氣盤片孔徑為d2，曝氣盤片支撐托盤的另外一面以氣體連通的方式與固定螺紋接口相耦接，固定螺紋接口與曝氣管道相連通，所述曝氣裝置還包括有止回閥，止回閥設置于固定螺紋接口中，其用于確保曝氣裝置內經常充滿空氣，使得污泥和污水不易進入腔內堵塞曝氣孔，下層曝氣盤片孔徑d1和上曝氣盤片孔徑d2滿足2.8>d1/d2>2.5。

2.?如權利要求1所述的適用于制藥廢水處理的曝氣裝置，下層曝氣盤片孔徑d1和上曝氣盤片孔徑d2滿足3?>d1²/d2>0.8。

3.如權利要求1所述的適用于制藥廢水處理的曝氣裝置，其中d1在10-50微米范圍內取值，d2在100-150微米范圍內取值。

4.如權利要求1所述的適用于制藥廢水處理的曝氣裝置，上層曝氣盤片采用耐腐蝕，耐高壓材料制成。