[實用新型]一種離線可鋼低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請號: | 201220124329.5 | 申請日: | 2012-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN202576250U | 公開(公告)日: | 2012-12-05 |
| 發明(設計)人: | 顧海波;陳穎璽 | 申請(專利權)人: | 江蘇奧藍工程玻璃有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/36 | 分類號: | C03C17/36 |
| 代理公司: | 南京正聯知識產權代理有限公司 32243 | 代理人: | 顧伯興 |
| 地址: | 226001 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 離線 可鋼低 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
1.一種離線可鋼低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基片(1),其特征在于:所述玻璃基片(1)上依次設有第一氮化硅Si3N4層(2)、金屬鎳鉻NiCr層(3)、金屬銀Ag層(4)、金屬鎳鉻NiCr層(5)、第二氮化硅Si3N4層(6)。
2.根據權利要求1所述一種離線可鋼低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述玻璃基片(1)的厚度為3mm~15mm,所述第一氮化硅Si3N4層(2)的厚度為35nm~45nm,所述金屬鎳鉻NiCr層(3)的厚度為1.5~2.5nm,所述金屬銀Ag層(4)的厚度為6~10nm,所述金屬鎳鉻NiCr層(5)的厚度為2~2.5nm,所述第二氮化硅Si3N4層(6)的厚度為55~65nm。
3.根據權利要求1或2所述一種離線可鋼低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述玻璃基片的厚度為3mm~15mm,所述第一氮化硅Si3N4層(2)的厚度為37nm,所述金屬鎳鉻NiCr層(3)的厚度為1.9nm,所述金屬銀Ag層(4)的厚度為8nm,所述金屬鎳鉻NiCr層(5)的厚度為2.1nm,所述第二氮化硅Si3N4層(6)的厚度為57nm。
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