[實(shí)用新型]多層銅排結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220113911.1 | 申請(qǐng)日: | 2012-03-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN202473320U | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邱驥;劉謙;馬世寧;朱海燕;李新;陳勇;張道偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)人民解放軍裝甲兵工程學(xué)院;重慶烽巒科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01B7/04 | 分類號(hào): | H01B7/04;H01B7/02 |
| 代理公司: | 重慶博凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 50212 | 代理人: | 張先蕓 |
| 地址: | 100072*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 多層 結(jié)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種高頻設(shè)備用銅排,尤其涉及一種多層銅排結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
在工業(yè)上,尤其是在很多高頻設(shè)備中,由于載流要求比較大,各電器元件之間大都采用銅排進(jìn)行連接。目前的高頻設(shè)備中,連接所用的銅排都是單層銅排,由于單層銅排的硬度大、靈活性低,使得在連接過程中要求非常嚴(yán)格,包括銅排的彎折角度、鉆孔位置等,這樣在連接過程中就非常不方便。
實(shí)用新型內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的上述不足,本實(shí)用新型的目的就在于提供一種靈活性強(qiáng)、連接方便的多層銅排結(jié)構(gòu)。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是這樣的:一種多層銅排結(jié)構(gòu),包括數(shù)塊從上至下依次重疊設(shè)置的單層銅排,在重疊設(shè)置的數(shù)塊單層銅排外側(cè)套設(shè)有絕緣套。
進(jìn)一步地,所述單層銅排為4塊,使之形成4層銅排,適合多數(shù)設(shè)備使用,適應(yīng)性更強(qiáng)。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,多層結(jié)構(gòu)的銅排靈活性更強(qiáng),連接時(shí)各層銅排可以根據(jù)需要進(jìn)行適當(dāng)?shù)囊苿?dòng)和一定程度的彎折,使用上更加方便。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
實(shí)施例:參見圖1,一種多層銅排結(jié)構(gòu),包括數(shù)塊從上至下依次重疊設(shè)置的單層銅排1,在重疊設(shè)置的數(shù)塊單層銅排外側(cè)套設(shè)有絕緣套2。
所述單層銅排1為4塊,使之形成4層銅排,適合多數(shù)設(shè)備使用,適應(yīng)性更強(qiáng)。
本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,多層結(jié)構(gòu)的銅排靈活性更強(qiáng),連接時(shí)各層銅排可以根據(jù)需要進(jìn)行適當(dāng)?shù)囊苿?dòng)和一定程度的彎折,使用上更加方便。
使用時(shí),通過在多層銅排結(jié)構(gòu)一端打孔,使孔貫穿多層銅排結(jié)構(gòu),這樣通過導(dǎo)電螺栓就可將銅排的各層同時(shí)導(dǎo)通,然后根據(jù)需要,在銅排的其他位置打孔,以與電子元件進(jìn)行連接,由于銅排包括多層,這樣在對(duì)銅排進(jìn)行彎折以及小范圍移動(dòng)更方便,更加實(shí)用。
最后需要說明的是,以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非限制技術(shù)方案,盡管申請(qǐng)人參照較佳實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,那些對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換,而不脫離本技術(shù)方案的宗旨和范圍,均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)人民解放軍裝甲兵工程學(xué)院;重慶烽巒科技發(fā)展有限公司,未經(jīng)中國(guó)人民解放軍裝甲兵工程學(xué)院;重慶烽巒科技發(fā)展有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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