[實(shí)用新型]太陽能硅電池濕法刻蝕機(jī)刻蝕段雙層抽風(fēng)系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220111882.5
• 申請日: 2012-03-21
• 公開（公告）號: CN202855716U
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 錢誠;吳兵
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州晶洲裝備科技有限公司
• 主分類號: H01L21/306
• 分類號: H01L21/306;H01L31/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種對太陽能硅電池濕法刻蝕機(jī)刻蝕段抽風(fēng)系統(tǒng)的改良，尤其涉及一種太陽能硅電池濕法刻蝕機(jī)刻蝕段雙層抽風(fēng)系統(tǒng)。?

背景技術(shù)

太陽能硅電池濕法刻蝕設(shè)備中，硅片正面貼合藥水液面做水平傳輸進(jìn)行刻蝕，而硅片的背面則完全暴露在空氣中。為確保液面、氣流的穩(wěn)定，傳統(tǒng)的硅電池濕法刻蝕機(jī)在刻蝕段抽風(fēng)量比較小，但由于采用單層抽風(fēng)，在弱風(fēng)量的情況下刻蝕段仍然會出現(xiàn)嚴(yán)重的抽風(fēng)不均現(xiàn)象，暴露在空氣中的硅片表面極易受到藥水酸氣的不均勻腐蝕，導(dǎo)致刻蝕完成后的硅片方塊電阻飄升不均勻，工藝不易控制，影響最終電池片出片效率。?

實(shí)用新型內(nèi)容

為了解決抽風(fēng)穩(wěn)定性對電池片品質(zhì)所帶來的影響，本實(shí)用新型提供一種太陽能硅電池濕法刻蝕機(jī)刻蝕段雙層抽風(fēng)系統(tǒng)，該系統(tǒng)通過對整個(gè)刻蝕段抽風(fēng)均勻布置，確保整個(gè)刻蝕的氛圍穩(wěn)定，?最終實(shí)現(xiàn)硅片方塊電阻的均勻飄升。?

本實(shí)用新型的上述目的通過以下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：一種太陽能硅電池濕法刻蝕機(jī)刻蝕段雙層抽風(fēng)系統(tǒng)，所述系統(tǒng)為水平傳輸?shù)逆準(zhǔn)浇Y(jié)構(gòu)，其特征在于：?

所述系統(tǒng)包括槽體、第一層蓋板和第二層蓋板，在槽體刻蝕段入料方向與出料方向各有一個(gè)抽風(fēng)口；?

所述抽風(fēng)口連接槽體第一層蓋板，該蓋板上設(shè)有抽風(fēng)分流口，該蓋板將抽風(fēng)口的風(fēng)量均勻化，通過抽風(fēng)分流口分成若干小孔進(jìn)行分流，同時(shí)該蓋板還設(shè)有進(jìn)新風(fēng)口，保證了內(nèi)部抽風(fēng)的氛圍均勻性；?

所述第一層蓋板與第二層蓋板之間設(shè)置一層緩沖區(qū)，本緩沖區(qū)用于均勻第一層蓋板上小孔布置而形成的非均勻性抽風(fēng)壓力；?

所述緩沖區(qū)下方安裝第二層蓋板，該蓋板上密集的開了若干小孔，通過緩沖區(qū)的均勻化處理，在蓋板下方獲得非常穩(wěn)定均勻的抽風(fēng)效果。?

作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述抽風(fēng)口上設(shè)置負(fù)壓表監(jiān)控、調(diào)整抽風(fēng)壓力。?

本實(shí)用新型的有益效果是：利用第一層蓋板進(jìn)行抽風(fēng)壓力的第一次分流，經(jīng)過緩沖區(qū)緩沖與均勻化以后，第二層蓋板整個(gè)刻蝕區(qū)抽風(fēng)十分均勻，解決了原刻蝕機(jī)因抽風(fēng)段抽風(fēng)不均勻所引起的硅片方塊電阻不均勻的飄升現(xiàn)象，保證了電池片出片的品質(zhì)。?

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型原理圖；?

圖2為本實(shí)用新型第二層蓋板結(jié)構(gòu)圖；?

圖3為本實(shí)用新型第一層蓋板的俯視結(jié)構(gòu)圖；?

圖4為本實(shí)用新型第一層蓋板的側(cè)面結(jié)構(gòu)圖。?

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型進(jìn)一步詳述：?

如圖1所示，本系統(tǒng)的工作原理：所述系統(tǒng)包括槽體9、第一層蓋板4和第二層蓋板5，主抽風(fēng)管通過第一層蓋板4(圖3)兩側(cè)d75mm的抽風(fēng)口1進(jìn)行抽風(fēng)，進(jìn)風(fēng)口2上需要各自安裝一個(gè)負(fù)壓表進(jìn)行壓力監(jiān)控，實(shí)際工作時(shí)候，需要將負(fù)壓表值調(diào)成相等值。?

如圖3、圖4所示，第一層蓋板4抽風(fēng)腔體結(jié)構(gòu)，抽風(fēng)口1對抽風(fēng)腔體10進(jìn)行抽風(fēng)，腔體10則繼續(xù)把抽風(fēng)壓力釋放給主抽風(fēng)口下方的若干抽風(fēng)分流口3，這些抽風(fēng)分流口3的口徑根據(jù)工藝段槽體的長度與寬度計(jì)算獲得，以初步調(diào)整抽風(fēng)量的均勻性。抽風(fēng)分流口3所在的腔體截面要求至少如圖3的115mm*40mm，確保風(fēng)力穩(wěn)定。抽風(fēng)口旁邊為新風(fēng)口，用于交換氣體，保證整個(gè)刻蝕段風(fēng)量平衡。第一層蓋板4與第二層蓋板5之間為緩沖區(qū)6，整個(gè)緩沖區(qū)6即為一個(gè)長方體空間。兩層蓋板之間的緩沖區(qū)間距最小80mm，最大則不宜超過120mm，保證整個(gè)區(qū)域氣量穩(wěn)定、均?衡并且有對抽風(fēng)區(qū)7有足夠抽風(fēng)力。?

如圖2所示，緩沖區(qū)6將第一層蓋板4抽風(fēng)的負(fù)壓均勻化后將整個(gè)抽風(fēng)力釋放于第二層蓋板5，通過密集的小孔8，第二層蓋板5對整個(gè)抽風(fēng)區(qū)7進(jìn)行均勻的抽風(fēng)，第二層蓋板5結(jié)構(gòu)如圖2所示，可根據(jù)抽風(fēng)區(qū)域的大小調(diào)整整個(gè)蓋板的長L與寬W，小孔8的孔徑與分布保持不變。?

則本技術(shù)方案實(shí)施完畢。?