[實用新型]太陽能硅電池濕法刻蝕機氣簾保護裝置有效
| 申請號: | 201220111852.4 | 申請日: | 2012-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN202601573U | 公開(公告)日: | 2012-12-12 |
| 發明(設計)人: | 張強;施利君 | 申請(專利權)人: | 蘇州晶洲裝備科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/306 | 分類號: | H01L21/306;H01L31/18 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215555 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 太陽能 電池 濕法 刻蝕 機氣簾 保護裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種用于太陽能硅電池濕法刻蝕機的氣簾保護裝置,該裝置主要應用于防止刻蝕段酸氣外泄,解決了該設備堿洗段易受污染,藥水壽命低等現象。?
背景技術
目前國內國產的太陽能硅電池濕法刻蝕設備中,由于刻蝕段的特殊工藝要求,刻蝕段的抽風量較低,導致刻蝕段一部分酸氣外泄,當這部分酸氣擴散至相鄰的堿洗段時,酸氣溶解于堿洗槽位,嚴重污染了堿洗槽體,大大縮減了藥水的使用壽命,增加了客戶的機器運行成本。?
實用新型內容
由于刻蝕段的抽風量不允許調大,為了保證刻蝕段的酸氣不會大量擴散,本實用新型提供了一種太陽能硅電池濕法刻蝕機氣簾保護裝置,通過這套氣簾,解決了傳統的濕法刻蝕機刻蝕段藥氣擴散的現象,極大的提高了藥水使用壽命,降低了設備運營成本。?
本實用新型的上述目的通過以下的技術方案來實現:一種太陽能硅電池濕法刻蝕機氣簾保護裝置,包括槽體和蓋板,其特征在于:在槽體的刻蝕段后方設置過渡區,在過渡區的后方設置一抽風管;在抽風管的后方加裝一把氣刀,利用氣刀的風力在其覆蓋區域內形成一道氣墻,阻擋刻蝕段的酸氣擴散;利用抽風管路系統將氣刀內噴出的氣體吸收,令抽風管與氣刀組成一個穩定的系統。?
本實用新型的有益效果是,利用氣簾裝置及其配套的元件所組成的系統,有效的防止了刻蝕段的酸氣擴散。?
附圖說明
圖1為本實用新型的結構示意圖。?
具體實施方式
下面結合附圖對本實用新型進一步詳述:?
如圖1所示,一種太陽能硅電池濕法刻蝕機氣簾保護裝置,包括槽體1和蓋板2,其特征在于:在槽體1的刻蝕段3后方設置過渡區4,在過渡區4的后方設置一抽風管5;在抽風管5的后方加裝一把氣刀6,利用氣刀6的風力在其覆蓋區域內形成一道氣墻,阻擋刻蝕段3的酸氣擴散;利用抽風管路系統將氣刀6內噴出的氣體吸收,令抽風管5與氣刀6組成一個穩定的系統。?
硅片在工藝段均需要安裝蓋板2進行化學防護,防止化學段?的藥水蒸汽散發至整個設備中。由于刻蝕段3的抽風量較低,一部分酸氣會向其它槽進行酸氣的外泄。?
為了盡可能在結構上減少酸氣外泄的量,各個工藝段與工藝段之間僅留一道<10mm的縫隙,僅確保留硅片可以通過。?
酸氣散發至過渡區4,過渡區4長度要求≥300mm,過渡區4前方不可安裝抽風管,防止抽風管的吸力破壞刻蝕段的氣場。過渡區4的后方則需安裝一組強勁的抽風管5,避免抽風管5對刻蝕段3產生影響,過渡區4禁止安裝上蓋板2。?
設備工作過程中,從刻蝕段3散發出的大部分的酸氣均被抽風管5初步吸收。少部分的酸氣繼續散發至氣刀6處,由于工藝段連接處縫隙比較小,而氣刀6的風力強而集中,因此散發的酸氣被氣刀6組成的氣簾擋回,重新被抽風管5吸收。?
則本技術方案實施完畢。?
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





