[實(shí)用新型]一種擴(kuò)展超聲探測(cè)區(qū)域和提高探測(cè)精度的裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220109935.X | 申請(qǐng)日: | 2012-03-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN202512242U | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-10-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韋崗;余業(yè)林;曹燕 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華南理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01S15/89 | 分類號(hào): | G01S15/89;G01S7/52 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102 | 代理人: | 何淑珍 |
| 地址: | 510640 廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 擴(kuò)展 超聲 探測(cè) 區(qū)域 提高 精度 裝置 | ||
1.一種擴(kuò)展超聲探測(cè)區(qū)域和提高探測(cè)精度的裝置,其特征在于由超聲波耦合墊和內(nèi)嵌在超聲波耦合墊片基中的反射粒組成,所述超聲波耦合墊片基的外層材料比內(nèi)層材料硬,所述超聲波耦合墊的外層和內(nèi)層均選用透聲材料,且超聲波在其內(nèi)部傳播聲速一致。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)展超聲探測(cè)區(qū)域和提高探測(cè)精度的裝置,其特征在于所述反射粒內(nèi)嵌在超聲波耦合墊片基外層材料中,反射粒采用陣列布置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)展超聲探測(cè)區(qū)域和提高探測(cè)精度的裝置,其特征在于所述反射粒采用布置形式為點(diǎn)陣、線陣以及點(diǎn)線相結(jié)合的陣列。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)展超聲探測(cè)區(qū)域和提高探測(cè)精度的裝置,其特征在于所述反射粒為金屬材料或陶瓷材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)展超聲探測(cè)區(qū)域和提高探測(cè)精度的裝置,其特征在于所有反射粒與超聲波耦合墊片基外表面的距離一致。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~5任一項(xiàng)所述的擴(kuò)展超聲探測(cè)區(qū)域和提高探測(cè)精度的裝置,其特征在于超聲波耦合墊片基采用三層設(shè)計(jì),從上至下分別是外層、彈性層和內(nèi)層,所述反射粒嵌于外層與內(nèi)層之間,且反射粒通過(guò)彈性層固定,彈性層采用透聲材料。
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G01S 無(wú)線電定向;無(wú)線電導(dǎo)航;采用無(wú)線電波測(cè)距或測(cè)速;采用無(wú)線電波的反射或再輻射的定位或存在檢測(cè);采用其他波的類似裝置
G01S15-00 利用聲波的反射或再輻射的系統(tǒng),例如聲納系統(tǒng)
G01S15-02 .利用聲波的反射
G01S15-66 .聲納跟蹤系統(tǒng)
G01S15-74 .應(yīng)用聲波再輻射的系統(tǒng),例如IFF,即敵我識(shí)別
G01S15-87 .聲納系統(tǒng)的組合
G01S15-88 .專門適用于特定應(yīng)用的聲納系統(tǒng)





