[實用新型]坩堝冷卻裝置

有效

• 申請號: 201220104435.7
• 申請日: 2012-03-19
• 公開（公告）號: CN202543304U
• 公開（公告）日: 2012-11-21
• 發明（設計）人: 袁永旭;劉敏強
• 申請（專利權）人: 北京北儀創新真空技術有限責任公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30
• 代理公司: 北京凱特來知識產權代理有限公司 11260
• 代理人: 鄭立明;趙鎮勇

技術領域

本實用新型涉及一種鍍膜機坩堝，尤其涉及一種坩堝冷卻裝置。

背景技術

目前，鍍膜機已經被廣泛應用，制鍍薄膜尤其廣泛，其制作的各種薄膜被應用到各光電系統及光學儀器中，如數碼相機、數碼攝像機、望遠鏡、投影機、能量控制、光通訊、顯示技術、干涉儀、人造衛星飛彈、半導體激光、微機電系統、信息工業、激光的制作、各種濾光片、照明工業、傳感器、建筑玻璃、汽車工業、裝飾品、錢幣、眼鏡片等等。

電子槍坩堝是鍍膜機中加熱源部件電子槍的容器。在鍍膜機工作過程中，處在真空(空氣極其稀薄)中的電子槍產生高能電子會使坩堝內溫度升至700～3600℃，如此高的溫度會使坩堝熔化而被破壞，為了避免這類情況發生，有效地冷卻坩堝是一項關鍵技術。

如圖1所示，為現有技術的坩堝冷卻裝置，其中箭頭表示水流方向，冷卻水由入水孔進入坩堝在注滿坩堝冷卻腔后，從中部水孔流向頂盤四周的通水孔，再由頂盤與坩堝頂部之間的空隙流回中心管，中心管下端的出水孔流出。由于水流粘性易在圖示位置產生渦旋，從而不能有效地把坩堝產生的熱量帶走，在實際使用中，曾發生過由于冷卻不足而使坩堝被破壞的情況。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種坩堝冷卻裝置。

本實用新型的目的是通過以下技術方案實現的：

本實用新型的坩堝冷卻裝置，包括坩堝冷卻腔，所述冷卻腔的下壁設有入水口，所述冷卻腔的上部設有頂盤，所述頂盤的周邊部位設有通水孔，所述頂盤的中部設有出水口，所述出水口通過中心管穿過所述冷卻腔的下壁與外部相通，所述冷卻腔內設有分水盤，所述分水盤將所述冷卻腔分為上腔和下腔，所述上腔與下腔通過所述分水盤邊緣部位的缺口相通，所述下腔與所述入水口相通。

由上述本實用新型提供的技術方案可以看出，本實用新型提供的坩堝冷卻裝置，由于冷卻腔內設有分水盤，分水盤將所述冷卻腔分為上腔和下腔，上腔與下腔通過分水盤邊緣部位的缺口相通，下腔與入水口相通。水流由入水口流入，再經分水盤下方側向流動，在缺口處流到分水盤上方，經熱源側壁流向上方頂盤的通水孔，經頂盤上方從中心管由出水口流出，使貼近坩堝加熱部分的水流持續流動，攜帶走大量熱量，從而保證了坩堝體不被破壞。

附圖說明

圖1為現有技術中的坩堝冷卻裝置的結構示意圖；

圖2為本實用新型實施例提供的坩堝冷卻裝置的結構示意圖；

圖3為本實用新型實施例中分水盤的結構示意圖；

圖4為本實用新型實施例中的水流路徑示意圖。

圖中：1、坩鍋熱源，2、頂盤，3、水流渦旋示意，4、中心管，5、入水口，6、出水口，7、側壁開通孔部位，8、分水盤，9、立板，10、缺口。

具體實施方式

下面將結合附圖對本實用新型實施例作進一步地詳細描述。

本實用新型的坩堝冷卻裝置，其較佳的具體實施方式是：

包括坩堝冷卻腔，所述冷卻腔的下壁設有入水口，所述冷卻腔的上部設有頂盤，所述頂盤的周邊部位設有通水孔，所述頂盤的中部設有出水口，所述出水口通過中心管穿過所述冷卻腔的下壁與外部相通，所述冷卻腔內設有分水盤，所述分水盤將所述冷卻腔分為上腔和下腔，所述上腔與下腔通過所述分水盤邊緣部位的缺口相通，所述下腔與所述入水口相通。

所述分水盤用螺釘固定在所述冷卻腔的下壁上，所述入水孔與所述下腔之間的側壁開通孔。

所述分水盤的周邊部位固定有立板，所述立板的上緣抵在坩鍋熱源部位的下壁上。

具體實施例：

如圖2所示，為提高水冷效率，在坩堝內增加一個如圖3所示的分水盤，分水盤用螺釘固定在坩堝底部，同時將中部入水孔的側向打通，使水流向徑向流動。在分水盤上固定立板，可使水流流向坩堝正下方，同時支撐分水盤，使其不會發生振動。

如圖4所示，為本實用新型具體實施例的坩堝冷卻裝置的水流路徑，水流由入水口流入，再經分水盤下方側向流動，在缺口處流到分水盤上方，經熱源側壁流向上方頂盤的通水孔，經頂盤上方從中心管由出水口流出，使貼近坩堝加熱部分的水流持續流動，攜帶走大量熱量，從而保證了坩堝體不被破壞。

以上所述，僅為本實用新型較佳的具體實施方式，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本實用新型披露的技術范圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。因此，本實用新型的保護范圍應該以權利要求書的保護范圍為準。