[實用新型]氮氣制造裝置

有效

• 申請號: 201220104257.8
• 申請日: 2012-03-19
• 公開（公告）號: CN202569898U
• 公開（公告）日: 2012-12-05
• 發明（設計）人: 國分磨希也;坂本英久
• 申請（專利權）人: 大陽日酸株式會社
• 主分類號: B01D53/04
• 分類號: B01D53/04
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 康泉;王珍仙

1.一種氮氣制造裝置，用于通過變壓吸附方式由原料氣體制造氮的氮氣制造裝置，其特征在于，包括：壓縮機，對原料氣體加壓；兩個主吸附槽，填充有第一吸附劑；和副吸附槽，設置于連接兩個所述主吸附槽之間的管道上，填充有用于降低氣體中的氧濃度的第二吸附劑，所述副吸附槽的容積為所述主吸附槽的容積的1/40以上1/5以下。

2.根據權利要求1所述的氮氣制造裝置，其特征在于，連接兩個所述主吸附槽的所述管道為連接各所述主吸附槽的上游側之間的管道或者連接中間部和上游側的管道。

3.根據權利要求1或2所述的氮氣制造裝置，其特征在于，填充在所述副吸附槽中的所述第二吸附劑的氧吸附速度比填充在所述主吸附槽中的所述第一吸附劑的氧吸附速度快。

4.根據權利要求1或2所述的氮氣制造裝置，其特征在于，填充在所述主吸附槽中的所述第一吸附劑為分子篩活性炭。

5.根據權利要求1或2所述的氮氣制造裝置，其特征在于，填充在所述副吸附槽中的所述第二吸附劑為分子篩活性炭。

6.一種氮氣制造裝置，用于通過變壓吸附方式由原料氣體制造氮的氮氣制造裝置，其特征在于，包括：壓縮機，對原料氣體加壓；兩個主吸附槽，填充有第一吸附劑；和副吸附槽，設置于連接兩個所述主吸附槽之間的管道上，填充有用于降低氣體中的氧濃度的第二吸附劑，所述副吸附槽的容積為所述主吸附槽的容積的1/20以上1/7以下。

7.根據權利要求6所述的氮氣制造裝置，其特征在于，連接兩個所述主吸?附槽的所述管道為連接各所述主吸附槽的上游側之間的管道或者連接中間部和上游側的管道。

8.根據權利要求6或7所述的氮氣制造裝置，其特征在于，填充在所述副吸附槽中的所述第二吸附劑的氧吸附速度比填充在所述主吸附槽中的所述第一吸附劑的氧吸附速度快。

9.根據權利要求6或7所述的氮氣制造裝置，其特征在于，填充在所述主吸附槽中的所述第一吸附劑為分子篩活性炭。

10.根據權利要求6或7所述的氮氣制造裝置，其特征在于，填充在所述副吸附槽中的所述第二吸附劑為分子篩活性炭。

11.一種氮氣制造裝置，用于通過變壓吸附方式由原料氣體制造氮的氮氣制造裝置，其特征在于，包括：壓縮機，對原料氣體加壓；兩個主吸附槽，填充有第一吸附劑；和副吸附槽，設置于連接兩個所述主吸附槽之間的管道上，填充有用于降低氣體中的氧濃度的第二吸附劑，所述副吸附槽的容積為所述主吸附槽的容積的1/20以上1/10以下。

12.根據權利要求11所述的氮氣制造裝置，其特征在于，連接兩個所述主吸附槽的所述管道為連接各所述主吸附槽的上游側之間的管道或者連接中間部和上游側的管道。

13.根據權利要求11或12所述的氮氣制造裝置，其特征在于，填充在所述副吸附槽中的所述第二吸附劑的氧吸附速度比填充在所述主吸附槽中的所述第一吸附劑的氧吸附速度快。

14.根據權利要求11或12所述的氮氣制造裝置，其特征在于，填充在所述主吸附槽中的所述第一吸附劑為分子篩活性炭。

15.根據權利要求11或12所述的氮氣制造裝置，其特征在于，填充在所述副吸附槽中的所述第二吸附劑為分子篩活性炭。

16.一種氮氣制造裝置，用于通過變壓吸附方式由原料氣體制造氮的氮氣制?造裝置，其特征在于，包括：壓縮機，對原料氣體加壓；兩個主吸附槽，填充有第一吸附劑；和副吸附槽，設置于連接兩個所述主吸附槽之間的管道上，填充有用于降低氣體中的氧濃度的第二吸附劑，所述副吸附槽的容積為所述主吸附槽的容積的1/10以上1/7以下。

17.根據權利要求16所述的氮氣制造裝置，其特征在于，連接兩個所述主吸附槽的所述管道為連接各所述主吸附槽的上游側之間的管道或者連接中間部和上游側的管道。

18.根據權利要求16或17所述的氮氣制造裝置，其特征在于，填充在所述副吸附槽中的所述第二吸附劑的氧吸附速度比填充在所述主吸附槽中的所述第一吸附劑的氧吸附速度快。

19.根據權利要求16或17所述的氮氣制造裝置，其特征在于，填充在所述主吸附槽中的所述第一吸附劑為分子篩活性炭。

20.根據權利要求16或17所述的氮氣制造裝置，其特征在于，填充在所述副吸附槽中的所述第二吸附劑為分子篩活性炭。?