[實用新型]噴嘴固定座有效
| 申請號: | 201220093233.7 | 申請日: | 2012-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN202473876U | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發明(設計)人: | 謝玲艷 | 申請(專利權)人: | 余姚市士森銅材廠 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 安徽匯樸律師事務所 34116 | 代理人: | 胡敏 |
| 地址: | 315400 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 噴嘴 固定 | ||
1.一種噴嘴固定座,其包括基座和覆蓋件,所述覆蓋件開設有通孔,所述基座收容于所述通孔內,所述基座上開設有貫穿該基座的主氣孔,其特征在于,所述基座與所述覆蓋件之間形成有氣隙,所述基座上還開設有副氣孔,所述副氣孔與所述氣隙連通。
2.如權利要求1所述的噴嘴固定座,其特征在于,所述基座包括基座本體和設于所述基座本體上的凸臺,所述副氣孔位于所述凸臺一側并貫穿所述基座本體。
3.如權利要求2所述的噴嘴固定座,其特征在于,所述凸臺邊緣具有倒角,所述倒角與所述覆蓋件內壁之間形成所述氣隙。
4.如權利要求2所述的噴嘴固定座,其特征在于,所述基座本體和凸臺的外周橫截面均呈圓形,所述通孔的橫截面也呈圓形。
5.如權利要求2所述的噴嘴固定座,其特征在于,所述覆蓋件的內壁一端具有導向角,所述通孔靠近所述導向角一端的孔徑小于所述基座本體的外徑。
6.如權利要求3所述的噴嘴固定座,其特征在于,所述覆蓋件靠近所述倒角的內壁上形成有導流角,所述倒角與水平面成第一夾角,所述導流角與水平面成第二夾角,所述第一夾角大于所述第二夾角。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





