[實用新型]一種光催化氧化原位修復浮動式潛流裝置

有效

• 申請號: 201220090116.5
• 申請日: 2012-03-12
• 公開（公告）號: CN202519130U
• 公開（公告）日: 2012-11-07
• 發明（設計）人: 柳建設;姜萍;朱建林;許賀;張永剛
• 申請（專利權）人: 東華大學
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14;C02F3/32;C02F1/72
• 代理公司: 上海泰能知識產權代理事務所 31233
• 代理人: 宋纓;孫健

1.一種光催化氧化原位修復浮動式潛流裝置，包括蓄水槽(1)、第一人工濕地槽(2)、第二人工濕地槽(3)和懸浮結構槽(4)，所述第一人工濕地槽(2)和第二人工濕地槽(3)內放置有基質，其特征在于，所述蓄水槽(1)與第一人工濕地槽(2)相連，所述第一人工濕地槽(2)與懸浮結構槽(4)相連，所述懸浮結構槽(4)與第二人工濕地槽(3)相連；所述蓄水槽(1)通過布水管(5)與懸浮結構槽(4)相連，所述布水管(5)鋪設于第一人工濕地槽(2)底部；所述第一人工濕地槽(2)和懸浮結構槽(4)的外圍為溢流堰；所述第一人工濕地槽(2)外側和懸浮結構槽(4)上表面鋪設有鍍有二氧化鈦光催化劑的板(6)。

2.根據權利要求1所述的光催化氧化原位修復浮動式潛流裝置，其特征在于，所述第二人工濕地槽(3)底部外側設有用于拖住基質的網。

3.根據權利要求1所述的光催化氧化原位修復浮動式潛流裝置，其特征在于，所述懸浮結構槽(4)內設有用于提供浮力的浮筒或聚乙烯泡沫。

4.根據權利要求1所述的光催化氧化原位修復浮動式潛流裝置，其特征在于，所述布水管(5)表面開有孔。

5.根據權利要求1所述的光催化氧化原位修復浮動式潛流裝置，其特征在于，所述基質為陶粒，所述陶粒表層覆蓋沙土。

6.根據權利要求1所述的光催化氧化原位修復浮動式潛流裝置，其特征在于，所述基質為硅藻土。