[實(shí)用新型]用于射線掃描成像的設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220085501.0
• 申請(qǐng)日: 2012-03-09
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN202562861U
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-11-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳志強(qiáng);張麗;趙自然;邢宇翔;郝佳;李亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 同方威視技術(shù)股份有限公司;清華大學(xué)
• 主分類號(hào): G01N23/04
• 分類號(hào): G01N23/04
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 屠長(zhǎng)存

1.一種用于射線掃描成像的設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備包括：

多個(gè)射線發(fā)生器，所述多個(gè)射線發(fā)生器沿圓弧均勻分布，在一個(gè)掃描周期內(nèi)，所述多個(gè)射線發(fā)生器依次向檢查對(duì)象發(fā)出射線束，以完成對(duì)一個(gè)斷層的掃描；

射線探測(cè)裝置，所述射線探測(cè)裝置用于采集所述多個(gè)射線發(fā)生器所發(fā)出的射線束的射線投影數(shù)值。

2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個(gè)射線發(fā)生器所構(gòu)成的圓弧的圓心角至少為π+2γ，其中，2γ為所述射線發(fā)生器所發(fā)出的扇形射線束的扇角。

3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，每個(gè)所述射線發(fā)生器包括至少一個(gè)射線發(fā)射單元。

4.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其特征在于，所述射線束為扇形射線束或者為由多個(gè)彼此平行的直線形射線束構(gòu)成的射線束組。

5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述射線探測(cè)裝置為圓弧狀的射線探測(cè)器陣列，在該射線探測(cè)器陣列中，所述多個(gè)射線探測(cè)單元沿圓弧均勻分布。

6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述射線探測(cè)裝置包括多個(gè)射線探測(cè)器線性陣列，每個(gè)所述射線探測(cè)器線性陣列由多個(gè)沿直線排列的射線探測(cè)單元構(gòu)成，所述多個(gè)射線探測(cè)器線性陣列位于同一平面并通過(guò)端部依次連接，并且兩端的兩個(gè)射線探測(cè)器線性陣列不相連，以構(gòu)成半封閉框架。

7.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其特征在于，

當(dāng)所述射線探測(cè)器線性陣列的數(shù)目大于3時(shí)，所述多個(gè)射線探測(cè)器線性陣列按照如下方式設(shè)置：

相鄰兩個(gè)射線探測(cè)器線性陣列所成角度大于π/2，并且所述多個(gè)射線探測(cè)器線性陣列能夠檢測(cè)全部射線發(fā)生器所發(fā)出的射線束。

8.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其特征在于，

當(dāng)所述射線探測(cè)器線性陣列的數(shù)目為3時(shí)，所述3個(gè)射線探測(cè)器線性陣列按照如下方式設(shè)置：

位于兩側(cè)的射線探測(cè)器線性陣列均與中間的射線探測(cè)器線性陣列相垂直，并且所述3個(gè)射線探測(cè)器線性陣列能夠檢測(cè)全部射線發(fā)生器所發(fā)出的射線束。

9.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個(gè)射線探測(cè)器線性陣列所在平面與所述多個(gè)射線發(fā)生器所在平面相平行，且該兩平面與檢查對(duì)象的運(yùn)動(dòng)方向相垂直。

10.如權(quán)利要求5或6所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括成像單元，該成像單元對(duì)所述射線探測(cè)裝置所采集的射線檢測(cè)數(shù)值進(jìn)行處理，以獲得檢查對(duì)象的圖像。

11.如權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其特征在于，

對(duì)于由多個(gè)射線探測(cè)器線性陣列構(gòu)成的射線探測(cè)裝置，至少一個(gè)射線發(fā)生器所對(duì)應(yīng)的多個(gè)射線探測(cè)單元未形成與該射線發(fā)生器所發(fā)出的射線束的中軸線相垂直的直線；

所述成像單元針對(duì)所述至少一個(gè)射線發(fā)生器中的每一個(gè)，設(shè)置等距型虛擬探測(cè)器線性陣列，所述等距型虛擬探測(cè)器線性陣列包括多個(gè)沿直線排列且等距分布的虛擬探測(cè)單元，每個(gè)射線發(fā)生器與相應(yīng)的等距型虛擬探測(cè)器陣列的距離相等，

所述成像單元根據(jù)所述射線發(fā)生器與所述射線探測(cè)單元的連線，確定與所述虛擬探測(cè)單元相對(duì)應(yīng)的射線探測(cè)單元，并基于該射線探測(cè)單元的射線檢測(cè)數(shù)值，獲得該虛擬探測(cè)單元的射線檢測(cè)數(shù)值，

全部等距型虛擬探測(cè)器線性陣列的射線檢測(cè)數(shù)值構(gòu)成等距扇束投影數(shù)值；

對(duì)于由圓弧狀射線探測(cè)器陣列構(gòu)成的射線探測(cè)裝置，該裝置所獲得的射線檢測(cè)數(shù)值構(gòu)成等距扇束投影數(shù)值或者平行束投影數(shù)值。

12.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其特征在于，

所述射線探測(cè)單元為偽雙能探測(cè)單元；

所述成像單元對(duì)所述等距扇束投影數(shù)值或者平行束投影數(shù)值進(jìn)行雙能分解處理，以獲得不同基材料的雙能分解系數(shù)，并利用濾波反投影算法對(duì)所述不同基材料的雙能分解系數(shù)進(jìn)行雙能重建，從而獲得檢查對(duì)象的圖像。

13.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括數(shù)據(jù)庫(kù)，所述數(shù)據(jù)庫(kù)用于存儲(chǔ)可疑物品的原子序數(shù)和電子密度；

所述成像單元將在所述雙能重建中所獲得的檢查對(duì)象的原子序數(shù)和電子密度分布與所述數(shù)據(jù)庫(kù)中的數(shù)據(jù)進(jìn)行比對(duì)，以判斷檢查對(duì)象是否為可疑物品。