[實用新型]具有多層膜反射結構的觸摸屏

有效

• 申請號: 201220075522.4
• 申請日: 2012-03-01
• 公開（公告）號: CN202404554U
• 公開（公告）日: 2012-08-29
• 發明（設計）人: 陳猷仁;邱建泰;蘇毓勛;彭思翔
• 申請（專利權）人: 祥達光學（廈門）有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 梁揮;祁建國

技術領域

本實用新型涉及觸摸領域技術，尤其是指一種具有多層膜反射結構的觸摸屏。

背景技術

如圖1所示，傳統觸摸屏包括玻璃基板10′、白色遮蔽層20′、灰色遮蔽層30′、金屬連接線40′和導電感應層50′。這種多層膜反射結構在使用白色遮蔽層20′時，會面臨光學密度(OD)不足、白度不夠白等問題。若提高白色遮蔽層20′厚度或重復多層涂上白色遮蔽層20′以達到合適之遮光度及白度，則會面臨后續導電感應層50′制程跨越高厚度白色遮蔽層20′時，易發生導電感應層50′斷裂的問題。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型針對現有技術存在之缺失，其主要目的是提供一種具有多層膜反射結構的觸摸屏，其解決導電感應層斷裂的問題，使多層飾材不局限于黑色，白色甚至其它顏色材料都可以設計生產，從而克服現有技術的不足。

為實現上述目的，本實用新型采用如下之技術方案：

一種具有多層膜反射結構的觸摸屏，包括玻璃基板、金屬連接線和導電感應層，其特征在于：該玻璃基板的表面設置有遮蔽層，且該遮蔽層表面上鍍有一高反射層，該金屬連接線設于該高反射層上。

優選的，所述高反射層是采用多層高折射率薄膜與多層低折射率薄膜間隔堆疊形成的堆疊結構。

優選的，所述堆疊結構的厚度為1um～2um。

優選的，所述高折射率薄膜為五氧化二鈮薄膜，所述低折射率薄膜為二氧化硅薄膜。

優選的，所述遮蔽層為有色或無色干膜層、光阻層或油墨層。

優選的，所述遮蔽層的厚度為5um。

本實用新型與現有技術相比具有明顯的優點和有益效果，具體而言，由上述技術方案可知，其主要是以濺鍍方式鍍上高反射層，使光線透過遮蔽層后反射出明亮的白色，在高反射率低透光率的情況下，可完整遮蔽后方之金屬連接線，從而遮蔽層的材料不局限于黑色，白色甚至其它顏色材料都可以設計生產。

另外，因使用薄膜濺射方式，高折射率薄膜和低折射率薄膜形成的堆疊總厚度將不超過2um，使得導電感應層在跨接時，不易產生斷線，進一步解決導電感應層斷裂的問題。

為更清楚地闡述本實用新型的結構特征和功效，下面結合附圖與具體實施例來對本實用新型進行詳細說明。

附圖說明

圖1是傳統之傳統觸摸屏結構示意圖；

圖2是本實用新型之具有多層膜反射結構的觸摸屏結構示意圖。

附圖標識說明：

10′、玻璃基板????????20′、白色遮蔽層

30′、灰色遮蔽層????40′、金屬連接線

50′、導電感應層

10、玻璃基板????????20、遮蔽層

30、金屬連接線??????40、導電感應層

50、高反射層????????51、高折射率薄膜

52、低折射率薄膜。

具體實施方式

請參照圖2所示，其顯示出了本實用新型之較佳實施例的具體結構，包括有玻璃基板10、遮蔽層20、金屬連接線30、導電感應層40和高反射層50，該玻璃基板10位于產品的最底層，該遮蔽層20設置在玻璃基板10的上表面，該高反射層50是以濺鍍方式鍍在遮蔽層20的表面上，金屬連接線30設置在高反射層50上，導電感應層40臺階式地跨接在玻璃基板10、遮蔽層20、金屬連接線30和高反射層50之間。

其中，該遮蔽層20為有色或無色干膜層、光阻層或油墨層，且遮蔽層20的厚度為5um。該高反射層50的可見光波長反射率大于97％，使光線透過遮蔽層20后反射出明亮的白色，在高反射率低透光率的情況下，可完整遮蔽后方金屬連接線30。

高反射層50的成膜方式是使用多層高折射率薄膜51與低折射率薄膜52作堆疊濺渡，本實施例中，高折射率薄膜51采用五氧化二鈮(Nb2O5)，低折射率薄膜52采用二氧化硅(SiO2)。為了更形象地表達高折射率薄膜51與低折射率薄膜52的堆疊結構，可假設高折射率薄膜51的代號為H，低折射率薄膜52的代號為L，即HLHLHLH....LH的方式，依nd＝1/4λ的基本光學原理，設計不同的成膜厚度使得可見光全波長(400nm～700nm)下反射率接近99％。

因使用薄膜濺射方式，高折射率薄膜51和低折射率薄膜52形成的堆疊總厚度將不超過2um，一般情況下堆疊總厚度在1um～2um，使得導電感應層40在跨接時，不易產生斷裂的問題。