[實用新型]雙倍產量的化學機械研磨機臺

有效

• 申請號: 201220065209.2
• 申請日: 2012-02-27
• 公開（公告）號: CN202438912U
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 唐強;朱海青;李佩
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;B24B37/34;H01L21/02;H01L21/304
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種雙倍產量的化學機械研磨機臺，包括研磨機構、清洗機構以及晶圓進出機構，其特征在于，所述研磨機構是雙晶圓同步研磨機構，所述清洗機構是雙晶圓同步清洗及甩干機構，所述晶圓進出機構帶動兩片晶圓在所述研磨機構、清洗機構之間傳輸。

2.根據權利要求1所述的雙倍產量的化學機械研磨機臺，其特征在于，所述雙晶圓同步研磨機構包括若干研磨單元與晶圓裝/卸單元，每個研磨單元包括上附研磨墊的研磨盤、以及分別設于該研磨墊上的兩個研磨頭與兩個研磨墊整理器。

3.根據權利要求1所述的雙倍產量的化學機械研磨機臺，其特征在于，所述雙晶圓同步清洗及甩干機構包括晶圓抓取部件以及相鄰設置的高溫浸洗容器、刷洗容器與甩干容器，所述高溫浸洗容器、刷洗容器與甩干容器分別具有兩個用于承載晶圓的支撐部件，所述晶圓抓取部件帶動兩片晶圓在所述高溫浸洗容器、刷洗容器以及甩干容器間傳輸。

4.據權利要求3所述的雙倍產量的化學機械研磨機臺，其特征在于，所述晶圓抓取部件具有兩個用于抓取晶圓的抓手。

5.根據權利要求3所述的雙倍產量的化學機械研磨機臺，其特征在于，所述高溫浸洗容器包括第一容器以及設于所述第一容器內的兩個用于承載晶圓的第一支撐部件。

6.根據權利要求3所述的雙倍產量的化學機械研磨機臺，其特征在于，所述刷洗容器包括第二容器以及設于所述第二容器內的兩個用于承載晶圓的第二支撐部件以及分別清洗所述晶圓的正/背面的沖洗管路。

7.根據權利要求6所述的雙倍產量的化學機械研磨機臺，其特征在于，所述刷洗容器的數量為兩個且相鄰設置。

8.根據權利要求3所述的雙倍產量的化學機械研磨機臺，其特征在于，所述甩干容器包括第三容器以及設于所述第三容器內的兩個用于承載晶圓的第三支撐部件。

9.根據權利要求1～8中任意一項所述的雙倍產量的化學機械研磨機臺，其特征在于，所述雙晶圓同步傳輸機構包括用于承載兩片晶圓的傳輸部件。