[實用新型]一種內弧面均勻分布高磁通密度的磁瓦成型模具

有效

• 申請號: 201220049573.X
• 申請日: 2012-02-16
• 公開（公告）號: CN202438610U
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 王自敏;鄧志剛
• 申請（專利權）人: 自貢市江陽磁材有限責任公司
• 主分類號: B21D37/10
• 分類號: B21D37/10;H02K15/00
• 代理公司: 北京立成智業專利代理事務所(普通合伙) 11310
• 代理人: 張江涵

1.一種內弧面均勻分布高磁通密度的磁瓦成型模具，具有上沖頭、下沖頭、模套，其特征在于：上沖頭的下表面設置了導磁率≤1的弧形非導磁材料層，所述弧形非導磁材料層的下表面形狀與磁瓦外弧面相對應，非導磁材料層的厚度從中部向兩邊逐漸減小，在距側面1/4弧面長度處的非導磁材料層的厚度為其中部厚度的1/1.8～1/2.2倍。

2.如權利要求1所述的一種內弧面均勻分布高磁通密度的磁瓦成型模具，其特征在于：所述下沖頭的上表面鑲嵌了導磁率≤1的弧形非導磁材料層，該弧形非導磁材料層的上表面與磁瓦內弧面相對應，該非導磁材料層的厚度從中部向兩邊逐漸減小，在側面處該非導磁材料層的厚度為其中部厚度的1/1.8～1/2.2倍。

3.如權利要求1所述的一種內弧面均勻分布高磁通密度的磁瓦成型模具，其特征在于：在模套內表面的上部，鑲嵌設有一個截面為長方形或梯形的環形導磁材料塊，該導磁材料塊上表面的寬度為下表面寬度的1～1.5倍，該導磁材料塊高度為所成型生坯的1～1.5倍。