[實(shí)用新型]一種用于多晶硅鑄錠爐的進(jìn)氣排雜裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220047131.1 | 申請(qǐng)日： | 2012-02-14 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN202626351U | 公開(kāi)（公告）日： | 2012-12-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 游達(dá);吳義華;黃春來(lái);周聲浪;權(quán)祥 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 江蘇協(xié)鑫硅材料科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C30B28/06 | 分類(lèi)號(hào)： | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司： | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人： | 何平 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 多晶 鑄錠 進(jìn)氣排雜 裝置 | ||
1.一種用于多晶硅鑄錠爐的進(jìn)氣排雜裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣排雜裝置包括進(jìn)氣管及將從進(jìn)氣管進(jìn)來(lái)的氣體進(jìn)行分流的分流組件，所述進(jìn)氣管與所述分流組件相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的進(jìn)氣排雜裝置，其特征在于，所述分流組件包括一個(gè)上板與一個(gè)固定于上板上的下板，所述上板與所述下板之間形成一個(gè)空腔，所述下板上設(shè)置多個(gè)孔徑小于進(jìn)氣管的孔徑的出氣孔，通入進(jìn)氣管的氣體經(jīng)過(guò)所述空腔后從所述多個(gè)出氣孔排出。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的進(jìn)氣排雜裝置，其特征在于，所述多個(gè)出氣孔均勻分布在所述下板上。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的進(jìn)氣排雜裝置，其特征在于，所述上板與所述下板之間的距離為0.5厘米到10厘米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的進(jìn)氣排雜裝置，其特征在于，所述分流組件為一個(gè)圓錐形的導(dǎo)流板，所述導(dǎo)流板形成一個(gè)允許氣體通過(guò)的圓錐體腔體。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的進(jìn)氣排雜裝置，其特征在于，所述導(dǎo)流板形成的圓錐的頂角角度為5度到45度。?
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