[實用新型]電磁爐鍋具有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220046522.1 | 申請日: | 2012-02-05 |
| 公開(公告)號: | CN202457810U | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 萬宇 | 申請(專利權(quán))人: | 萬宇 |
| 主分類號: | A47J27/00 | 分類號: | A47J27/00;A47J36/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 510000 廣東省廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電磁爐 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種鍋具,具體是一種電磁爐鍋具。
背景技術(shù)
電磁爐是利用電磁感應(yīng)加熱原理制成的電器烹飪器具。通過在電磁爐內(nèi)設(shè)置加熱線圈盤,并利用磁場感應(yīng)的原理把熱量不經(jīng)過爐面直接傳遞到鍋具底部。感應(yīng)電流越大,產(chǎn)生的熱量就越大。而不同線圈盤結(jié)構(gòu)的電磁爐內(nèi)的磁場強度各不相同。對于一種方形線圈盤結(jié)構(gòu),市面上的鍋具難以滿足配合磁場強度適應(yīng)磁場感應(yīng)效果,達到整體均勻加熱的目的。因此,有必要作進一步改進。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的旨在提供一種結(jié)構(gòu)新穎合理、可實現(xiàn)均勻加熱、適用于方形線圈盤的電磁爐鍋具,以克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處。
按此目的設(shè)計的一種電磁爐鍋具,包括金屬材料制成的鍋身和鍋底,其結(jié)構(gòu)特征是鍋身圍成一方形框架,鍋底的厚度大小不一致。
所述鍋身圍成正方形或長方形。
所述鍋底的厚度與電磁爐線圈盤的磁場強度相配合,其中鍋底中線位置厚度h1較大,邊角位置厚度h2較小,其厚度差(h1-h2)為0.1-20mm。
所述鍋身與鍋底為沖壓、拉伸或壓鑄一體成型,或通過焊接連接。
一種電磁爐鍋具,包括電磁爐,和上述的鍋具,其結(jié)構(gòu)特征是電磁爐的線圈盤為表面彎弧狀的方形線圈盤,線圈呈方形盤繞在線圈盤上;線圈盤的中部位置H1離鍋具底部最遠,邊角位置H2離鍋具底部最近,其高低差(H1-H2)為0.1-40mm。
所述線圈盤為正方形線圈盤,對應(yīng)的鍋具為正方形,線圈呈正方形的盤繞在線圈盤上,其中線圈盤的中線附近區(qū)域A磁場最強,離鍋底距離最遠;對角線附近區(qū)域B磁場最弱,離鍋底距離最近。
所述線圈盤為長方形線圈盤,對應(yīng)的鍋具為長方形,線圈呈長方形的盤繞在線圈盤上,其中線圈盤的兩長邊的中線附近區(qū)域C磁場最強,離鍋底距離最遠;對角線附近區(qū)域D磁場最弱,離鍋底距離最近;短邊的中線附近區(qū)域E磁場居中,離鍋底距離居中。
本實用新型通過設(shè)置一種底部厚度不同的鍋具配合一種電磁爐方形線圈盤的磁場強度,以達到適應(yīng)磁場強弱效果,實現(xiàn)鍋具底部均勻加熱的目的。
附圖說明
圖1為本實用新型一實施例與線圈盤的組合結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為圖1中的另一方向結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為本實用新型一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為圖3中的另一方向結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5為一實施例鍋身側(cè)的主剖視圖。
圖6為一實施例鍋具的局部剖視圖。
圖7為第二實施例與線圈盤的組合結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中:1為鍋身,2為鍋底,3為線圈盤,4為線圈盤。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進一步描述。
第一實施例
參見圖1-圖6,一種電磁爐鍋具,包括金屬材料制成的鍋身1和鍋底2,鍋身圍成一方形框架,鍋底的厚度大小不一致。鍋底2的厚度與電磁爐線圈盤3的磁場強度相配合,其中鍋底2中線位置厚度h1較大,邊角位置厚度h2較小,其厚度差(h1-h2)為0.1-20mm。鍋身1與鍋底2為沖壓、拉伸或壓鑄一體成型,或通過焊接連接。該電磁爐鍋具,包括電磁爐,和上述的鍋具,其電磁爐的線圈盤3為表面彎弧狀的方形線圈盤,線圈4呈方形盤繞在線圈盤3上;線圈盤3的中部位置H1離鍋具底部最遠,邊角位置H2離鍋具底部最近,其高低差(H1-H2)為0.1-40mm。線圈盤3為正方形線圈盤,對應(yīng)的鍋具為正方形,線圈4呈正方形的盤繞在線圈盤3上,其中線圈盤3的中線附近區(qū)域A磁場最強,離鍋底2距離最遠;對角線附近區(qū)域B磁場最弱,離鍋底2距離最近。
第二實施例
參見圖7,本實施例與第一實施例的不同之處在于線圈盤3為長方形線圈盤,對應(yīng)的鍋具為長方形,線圈4呈長方形的盤繞在線圈盤3上,其中線圈盤3的兩長邊的中線附近區(qū)域C磁場最強,離鍋底2距離最遠;對角線附近區(qū)域D磁場最弱,離鍋底2距離最近;短邊的中線附近區(qū)域E磁場居中,離鍋底2距離居中。其它未述部分,同第一實施例。
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