[實(shí)用新型]一種低壓高均勻性水刀有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220034340.2 | 申請日: | 2012-02-03 |
| 公開(公告)號: | CN202491269U | 公開(公告)日: | 2012-10-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 方啟明;陳同貴;劉長征;李建光 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山市潔馳環(huán)保科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類號: | B26F3/00 | 分類號: | B26F3/00;B26D7/08 |
| 代理公司: | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200 | 代理人: | 曹毅 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 低壓 均勻 性水刀 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種PCB濕制程設(shè)備中要求大流量且要求均勻出水的清洗及貫孔水刀,具體涉及一種低壓高均勻性水刀。
背景技術(shù)
PCB濕制程設(shè)備中會用到具有特殊要求的水刀,1.出水量很大,2.出刀口面積較大(總出水面積一般會大于或接近進(jìn)水口面積,這會造成出水極不均勻),3.出水要均勻。常規(guī)水刀出水不均勻,會出現(xiàn)兩頭出水大、中間小,且隨著進(jìn)水壓力改而不穩(wěn)定等現(xiàn)象。
實(shí)用新型內(nèi)容
為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實(shí)用新型的目的是提供一種低壓高均勻性水刀,其可以使得低壓小進(jìn)水口管道清洗液進(jìn)入水刀后會得到均勻的出水效果。
為實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的,達(dá)到上述技術(shù)效果,本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
一種低壓高均勻性水刀,包括一水刀盒,所述水刀盒上部開設(shè)有進(jìn)水口,所述水刀盒下部開設(shè)有分流孔,所述水刀盒內(nèi)部開設(shè)有分流腔;所述進(jìn)水口上安裝有進(jìn)水管;所述分流孔上安裝有水刀口,所述水刀口內(nèi)部開設(shè)有水刀腔;所述分流腔內(nèi)設(shè)有分流板。
進(jìn)一步的,所述水刀腔共開設(shè)三個(gè)進(jìn)水口。
進(jìn)一步的,所述水刀口為均勻排布的小孔。
本實(shí)用新型的有益效果是:
本實(shí)用新型當(dāng)高壓高速清洗液通過進(jìn)水口進(jìn)入分流腔時(shí),經(jīng)分流板作用后不會產(chǎn)生局部高壓高速水流束,并且通過分流板作用后再繞行通過分流孔均勻進(jìn)入水刀腔,再經(jīng)水刀口均勻分布的小孔出水,從而形成均勻的水瀑效果。
附圖說明
此處所說明的附圖用來提供對本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解,構(gòu)成本申請的一部分,本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本實(shí)用新型,并不構(gòu)成對本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
圖1為本實(shí)用新型水刀結(jié)構(gòu)示意圖本實(shí)用新型水刀主進(jìn)水結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型水刀主進(jìn)水結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本實(shí)用新型水刀出水均勻性效果示意圖。
圖中標(biāo)號說明:1、水刀盒,2、進(jìn)水口,3、分流孔,4、分流腔,5、進(jìn)水管,6、水刀口,7、水刀腔,8、分流板。
具體實(shí)施方式
下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例,來詳細(xì)說明本實(shí)用新型。
參見圖1所示,一種低壓高均勻性水刀,包括一水刀盒1,所述水刀盒1上部開設(shè)有進(jìn)水口2,所述水刀盒1下部開設(shè)有分流孔3,所述水刀盒1內(nèi)部開設(shè)有分流腔4;所述進(jìn)水口2上安裝有進(jìn)水管5;所述分流孔3上安裝有水刀口6,所述水刀口6內(nèi)部開設(shè)有水刀腔7;所述分流腔4內(nèi)設(shè)有分流板8。
參見圖2所述,進(jìn)一步的,所述水刀腔7共開設(shè)三個(gè)進(jìn)水口。
參見圖3所示,進(jìn)一步的,所述水刀口6為均勻排布的小孔。
需要強(qiáng)調(diào)的是,上述設(shè)施例雖然對本實(shí)用新型作了比較詳細(xì)的說明,但是這些說明只是對本實(shí)用新型說明性的,而不是對實(shí)用新型的限制,任何不超出本實(shí)用新型實(shí)質(zhì)精神內(nèi)的發(fā)明創(chuàng)造,均落在本實(shí)用新型權(quán)利保護(hù)范圍之內(nèi)。
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