[實(shí)用新型]一種細(xì)胞遷移高分辨率阻抗實(shí)時(shí)跟蹤測控裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220016056.2
• 申請日: 2012-01-13
• 公開（公告）號: CN202522535U
• 公開（公告）日: 2012-11-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 江蓮梅;劉劍淼;汪莉;石劍;陳勇
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢介觀生物科技有限責(zé)任公司
• 主分類號: G01N27/02
• 分類號: G01N27/02;G01N35/00
• 代理公司: 武漢凌達(dá)知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(特殊普通合伙) 42221
• 代理人: 宋國榮

1.一種細(xì)胞遷移高分辨率阻抗實(shí)時(shí)跟蹤測控裝置，其特征在于，它包括腔體（1），該腔體（1）中部有能容納液體的腔室（2），該腔室（2）其中部由一個(gè)微孔薄膜（3）將腔室（2）隔成上腔室（2.1）和下腔室（2.2），微孔薄膜（3）上部為上腔體（1.1），下部為下腔體（1.2）；上腔體（1.1）的下部和下腔體（1.2）的上部靠近微孔薄膜（3）處分別有從外部向內(nèi)部空腔連通的電極孔（6）；上腔體（1.1）的電極孔（6）插入的是上腔室電極（6.1），下腔體（1.2）的電極孔（6）插入的是下腔室電極（6.2），兩電極分別與分析裝置（7）聯(lián)接；下腔體（1.2）的下部有與外部聯(lián)通的液體進(jìn)出通道（5）。

2.如權(quán)利要求1所述的細(xì)胞遷移高分辨率阻抗實(shí)時(shí)跟蹤測控裝置，其特征在于，腔體（1）為組合結(jié)構(gòu)，即上腔體（1.1）與下腔體（1.2）及封閉下腔體（1.2）底部的底座（1.3）為三個(gè)獨(dú)立的構(gòu)件；上腔室（2.1）和下腔室（2.2）一次或分別加工而成；微孔薄膜（3）夾在上腔體（1.1）的下端面與下腔體（1.2）的上端面之間；上腔體（1.1）與下腔體（1.2）結(jié)合部密封連接；下腔體（1.2）的下端面與獨(dú)立的底座（1.3）密封連接。

3.如權(quán)利要求2所述的細(xì)胞遷移高分辨率阻抗實(shí)時(shí)跟蹤測控裝置，其特征在于，所述的上腔體（1.1）和下腔體（1.2）材料為用于微流控領(lǐng)域用的聚合物材料；底座（1.3）材料選自于玻片，或用于微流控領(lǐng)域的聚合物材料；上腔體（1.1）與下腔體（1.2）結(jié)合部密封連接，以及下腔體（1.2）下端面與獨(dú)立的底座（1.3）密封連接均是用高真空氧等離子體法鍵合。

4.如權(quán)利要求1所述的所述的細(xì)胞遷移高分辨率阻抗實(shí)時(shí)跟蹤測控裝置，其特征在于，腔體（1）為整體結(jié)構(gòu)，即上腔體（1.1）與下腔體（1.2）及封閉下腔體（1.2）下端的底座（1.3）為一個(gè)整體構(gòu)件；下腔室（2.2）孔徑小于上腔室（2.1）孔徑，微孔薄膜（3）套裝在微孔薄膜環(huán)（4）上嵌入上腔室（2.1）中。

5.如權(quán)利要求4所述的細(xì)胞遷移高分辨率阻抗實(shí)時(shí)跟蹤測控裝置，其特征在于，整體結(jié)構(gòu)的腔體（1）的上腔體（1.1）和下腔體（1.2）及底座（1.3）為一整體材料加工而成，材料為微流控領(lǐng)域用的聚合物材料。

6.如權(quán)利要求1所述的細(xì)胞遷移高分辨率阻抗實(shí)時(shí)跟蹤測控裝置，其特征在于，上腔室（2.1）和下腔室（2.2）的直徑小于等于8毫米。

7.如權(quán)利要求1所述的細(xì)胞遷移高分辨率阻抗實(shí)時(shí)跟蹤測控裝置，其特征在于，上腔室（2.1）為細(xì)胞培養(yǎng)基室，上腔室電極（6.1）為工作電極；下腔室（2.2）為誘導(dǎo)劑室，下腔室電極（6.2）為參比電極；所述分析裝置（7）為阻抗分析儀，或多用電表，或電化學(xué)工作站。

8.如權(quán)利要求1所述的細(xì)胞遷移高分辨率阻抗實(shí)時(shí)跟蹤測控裝置，其特征在于，微孔薄膜（3）的厚度小于等于200微米，面積小于等于5平方厘米，微孔薄膜（3）上的微孔孔徑小于等于8微米；微孔薄膜（3）的材料為微流控領(lǐng)域用的聚合物材料,或光膠SU8。