[實用新型]蒸鍍用溝槽掩模板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220015890.X | 申請日: | 2012-01-16 |
| 公開(公告)號: | CN202576545U | 公開(公告)日: | 2012-12-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 魏志凌;高小平;鄭慶靚 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山允升吉光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/04;C23C14/12;H01L51/56 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蒸鍍用 溝槽 模板 | ||
1.一種蒸鍍用溝槽掩模板,形狀為四邊形金屬板,其特征在于,包括ITO面和蒸鍍面兩個面,所述掩模板上具有貫通ITO面和蒸鍍面的開口,在ITO面上的開口為網(wǎng)格狀,在蒸鍍面上的開口為溝槽狀,所述槽狀開口之間相互間隔且相互平行;?ITO面上的開口面積小于在蒸鍍面上的開口面積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用溝槽掩模板,其特征在于所述蒸鍍面上的槽狀開口橫向通過若干個實橋,將開口連接起來;所述掩模板為矩形,厚度為5~200μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍用溝槽掩模板,其特征在于所述ITO面通過橫向和縱向?qū)崢驅(qū)㈤_口在ITO面等距間隔開來;貫通的網(wǎng)格狀開口和溝槽狀開口的中心重合。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用溝槽掩模板,其特征在于溝槽ITO面和蒸鍍面的槽狀開口具有倒錐角,ITO面開口的倒錐角角度小于蒸鍍面的槽狀開口的倒錐角的角度;蒸鍍面溝槽開口的錐角在30~50°。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蒸鍍用溝槽掩模板,其特征在于所述的ITO面的橫向尺寸精度控制在±5μm;ITO面的倒錐角開口的垂直深度在5~25μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蒸鍍用溝槽掩模板,其特征在于ITO面的倒錐角開口的垂直厚度小于等于蒸鍍面錐角開口的垂直厚度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用溝槽掩模板,其特征在于掩模板材料為不銹鋼、純鎳、鎳鈷合金、鎳鐵合金、因瓦合金中的任意一種金屬板;掩模板厚度為10~50μm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用溝槽掩模板,其特征在于蒸鍍面大尺寸溝槽狀開口側(cè)壁為光滑錐壁。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用溝槽掩模版,其特征在于ITO面小尺寸網(wǎng)格狀開口側(cè)壁為光滑倒錐壁,錐度為0-8°。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





