[發明專利]用于氣相沉積的氟基表面處理劑和使用該表面處理劑通過氣相沉積進行修飾得到的制品

有效

• 申請號: 201210599226.9
• 申請日: 2012-11-30
• 公開（公告）號: CN103146305A
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發明（設計）人: 山根祐治;小池則之
• 申請（專利權）人: 信越化學工業株式會社
• 主分類號: C09D183/12
• 分類號: C09D183/12;C09D171/00;C23C16/00;G02B1/11;G06F3/041;C03C17/30
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 任宗華

1.一種用于氣相沉積的氟基表面處理劑，其包含(A)使用含氟氧化烯基團聚合物改性的含可水解基團的硅烷，和/或部分水解縮合物，和(B)重均分子量大于組分(A)的含氟氧化烯基團的聚合物，其中組分(A)和(B)以6∶4到9∶1的重量比混合。

2.權利要求1的氟基表面處理劑，其中組分(A)的重均分子量與組分(B)的重均分子量之間的比為1∶1.5-1∶5。

3.權利要求1或2的氟基表面處理劑，其中改性組分(A)的硅烷的含氟氧化烯基團聚合物的殘基具有3-151個通式(1)表示的重復單元：

-C_gF_2gO-????(1)

其中g是1-6的整數，其對于每個重復單元是獨立的，和組分(B)的含氟氧化烯基團的聚合物具有5-755個式(1)的重復單元。

4.權利要求1的氟基表面處理劑，其中組分(A)的硅烷是由通式(2)表示的硅烷：

其中Rf是單價的氟氧烷基或者二價氟氧化烯基，Q是將Rf基團和X基團連接在一起的二價有機基團，X是具有與可水解基團結合的硅烷和多個可水解基團的單價有機基團，和a是1或2。

5.權利要求4的氟基表面處理劑，其中在式(2)中，當a是1時，Rf是選自下列通式(3)、(4)和(5)中的一種：

其中Y獨立為F或者CF₃基團，m是3-150的整數，和d’是1-3的整數，

C₃F₇O(CF₂CF₂CF₂O)_mC_d′F_2d′-

?????????????????????????????(4)

其中m是3-150的整數和d’是1-3的整數，和

其中Y獨立為F或者CF₃基團，z是H或F，p和q各自為0-150的整數，p+q是3-150，d是1-3的整數，和該重復單元可以隨機連接在一起。

6.權利要求4的氟基表面處理劑，其中在式(2)中，當a是2時，Rf是選自以下通式(6)、(7)和(8)中的一種：

其中Y獨立為F或者CF₃基團，d’獨立為1-3的整數，e是2-6的整數，r和t各自為0-150的整數，s是0-6的整數，并且r+t+s是3-150，和該重復單元可以隨機結合在一起，

-C_dF_2dO(CF₂CF₂CF₂O)_m′C_dF_2d-????(7)

其中m’是3-150的整數和d是1-3的整數，和

Y獨立為F或者CF₃基團，d獨立為1-3的整數，p’和q’各自為0-150的整數，p’+q’是3-150，和該重復單元可以隨機連接在一起。

7.權利要求4的氟基表面處理劑，其中Q為未取代或者取代的具有2-12個碳原子的二價烴基，其可以包含至少一種選自酰胺鍵、醚鍵、酯鍵、乙烯鍵和二有機亞甲硅基團的結構。

8.權利要求7的氟基表面處理劑，其中Q是選自具有下式的二價基團的一種：

-CH₂OCH₂CH₂-

-CH₂OCH₂CH₂CH₂-

-CF₂OCH₂CH₂CH₂-

其中，b是2-4的整數和M是甲基。

9.權利要求4的氟基表面處理劑，其中X為可水解的甲硅烷基，或線性、支化或者環狀硅氧烷基或者甲硅烷基，其具有可水解甲硅烷基或可水解甲硅烷基亞烷基。