[發(fā)明專利]一種調(diào)焦調(diào)平檢測裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210594380.7
• 申請日: 2012-12-31
• 公開（公告）號: CN103913953A
• 公開（公告）日: 2014-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 刁雷;陳飛彪
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01B13/12
• 代理公司: 北京連和連知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種調(diào)焦調(diào)平檢測裝置，用于放大倍率為1的光刻系統(tǒng)的調(diào)焦調(diào)平，包括光源系統(tǒng)，掩模板，掩模臺，投影物鏡，硅片，工件臺，其特征在于，還包括一氣動差分測量傳感器，所述氣動差分測量傳感器包括兩組測量頭，第一組測量頭用于測量掩模面位置，第二組測量頭用于測量硅片面位置，一氣電轉(zhuǎn)換傳感器通過感測兩組測量頭測得的間距的不同而引起的氣壓值變化，將所述氣壓值變化值轉(zhuǎn)換為電信號，經(jīng)過信號處理后輸送給整機控制系統(tǒng)，從而控制工件臺的調(diào)整。

2.如權(quán)利要求1所述的調(diào)焦調(diào)平檢測裝置，其特征在于，所述兩組測量頭分別包括三個測量頭，三個測量頭安裝位置分別一一對應(yīng)。

3.如權(quán)利要求1所述的調(diào)焦調(diào)平檢測裝置，其特征在于，所述第一組測量頭沿掩模中心互為120°夾角布置，分別布置在靠近掩模邊緣部分。

4.如權(quán)利要求1所述的調(diào)焦調(diào)平檢測裝置，其特征在于，所述第二組測量頭互為120°角分布在硅片面圓周上。

5.如權(quán)利要求1所述的調(diào)焦調(diào)平檢測裝置，其特征在于，還包括一輔助連接零件，所述輔助連接零件連接在掩模板上方的整機框架上，所述第一組測量頭安裝在所述輔助連接零件上。

6.如權(quán)利要求1所述的調(diào)焦調(diào)平檢測裝置，其特征在于，還包括一輔助連接零件，所述輔助連接零件與投影物鏡鏡頭上設(shè)置的機械結(jié)構(gòu)連接，所述第二組測量頭安裝在所述輔助連接零件上。