[發明專利]一種用于空氣與水凈化的過濾膜及其制備方法

有效

• 申請號: 201210593935.6
• 申請日: 2012-12-31
• 公開（公告）號: CN103007781A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發明（設計）人: 余水;喬永亮;李明仁
• 申請（專利權）人: 廈門建霖工業有限公司
• 主分類號: B01D71/02
• 分類號: B01D71/02;B01D69/12;B01D67/00;C02F1/44;B01D53/22
• 代理公司: 廈門南強之路專利事務所 35200
• 代理人: 馬應森

1.一種用于空氣與水凈化的過濾膜及其制備方法，其特征在于包括以下步驟：

1）用導電膠將鋁箔貼合在單面導電鋁平面板表面上；再將貼合有鋁箔的單面導電鋁平面板作為陽極置于鋁的陽極氧化溶液中進行氧化反應，從而將鋁箔轉變成三氧化二鋁，并在厚度方向形成穿透的納米級到μm級的微孔，將獲得的孔徑均勻、高度有序的三氧化二鋁微孔陶瓷箔從單面導電鋁平面板上分離出來，則獲得具有孔徑均勻、高度有序的穿透微孔三氧化二鋁陶瓷箔；

2）將步驟1）獲得的微孔三氧化二鋁陶瓷箔放入物理氣相沉積爐中，在真空條件下進行反應磁控濺射獲摻雜銀的納米二氧化鈦鍍膜層微孔三氧化二鋁陶瓷過濾膜；

3）將步驟2）獲得的過濾膜熱處理后，獲得用于空氣與水凈化的過濾膜，所述過濾膜為銳鈦礦晶型的具有良好光催化活性的過濾膜。

2.如權利要求1所述的一種用于空氣與水凈化的過濾膜及其制備方法，其特征在于在步驟1）中，所述孔徑均勻、高度有序的三氧化二鋁微孔陶瓷箔，孔徑范圍為200～1000nm，孔間距為300～1000nm。

3.如權利要求1所述的一種用于空氣與水凈化的過濾膜及其制備方法，其特征在于在步驟1）中，所述三氧化二鋁微孔陶瓷箔的厚度為30～60μm。

4.如權利要求1所述的一種用于空氣與水凈化的過濾膜及其制備方法，其特征在于在步驟2）中，所述物理氣相沉積摻雜銀的納米二氧化鈦鍍膜層，其結構組成由從下往上一次為底層為納米二氧化鈦鍍膜層、中間一層銀層和最上層納米二氧化鈦鍍膜層。

5.如權利要求1所述的一種用于空氣與水凈化的過濾膜及其制備方法，其特征在于在步驟2）中，所述納米二氧化鈦鍍膜層的鍍膜工藝條件為：中頻磁控濺射鈦靶，電源電流0.5～10A，偏壓20～80V，占空比40%～80%，氬氣流速50～100SCCM，氧氣流速100～300SCCM，時間10~50min，納米銀層的鍍膜工藝條件可為：中頻磁控濺射銀靶，電源電流0.5～2A，偏壓20～80V，占空比40%～80%，氬氣流速50～150SCCM，時間2~10min。

6.如權利要求1所述的一種用于空氣與水凈化的過濾膜及其制備方法，其特征在于在步驟3）中，所述熱處理的溫度為400~500℃，熱處理的時間為4~8h。

7.如權利要求1~6中任一方法所制備的一種用于空氣與水凈化的過濾膜。