[發明專利]無磷轉化膜處理劑及其制備方法無效
| 申請號： | 201210593856.5 | 申請日： | 2012-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN103911606A | 公開（公告）日： | 2014-07-09 |
| 發明（設計）人： | 羅峰;羅遠;王振國 | 申請（專利權）人： | 上海妙克化學科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C22/34 | 分類號： | C23C22/34 |
| 代理公司： | 上海精晟知識產權代理有限公司 31253 | 代理人： | 肖愛華 |
| 地址： | 201299 上海市浦東新區*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 轉化 處理 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種無磷轉化膜處理劑，其特征在于，其中各組分及重量百分比如下：?
。
2.根據權利要求1所述的無磷轉化膜處理劑，其特征在于，所述液體硅烷是通過氨基硅烷加入乙酸水溶液水解得到的。?
3.一種根據權利要求1-2所述的無磷轉化膜處理劑的制備方法，其特征在于，將配方中所有原料混合，加熱至40-50℃，攪拌2-3小時，自然冷卻即得。?
4.根據權利要求3所述的無磷轉化膜處理劑的制備方法，其特征在于，所述液體硅烷通過如下方法制得：在硅烷偶聯劑3-氨基丙基三乙氧基硅烷中加入濃度為36％的乙酸水溶液，調整溶液PH值至2-3，常溫攪拌1小時即得。?
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C22-00 表面與反應液反應、覆層中留存表面材料反應產物的金屬材料表面化學處理，例如轉化層、金屬的鈍化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔體
C23C22-73 .以工藝為特征的
C23C22-78 .待鍍覆材料的預處理
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