[發明專利]制造位相差板的方法及所制得的位相差板

無效

• 申請號: 201210592551.2
• 申請日: 2012-12-31
• 公開（公告）號: CN103809232A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 洪維澤;吳昱寯;邱大任
• 申請（專利權）人: 遠東新世紀股份有限公司
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/1337;G02B27/26
• 代理公司: 北京泰吉知識產權代理有限公司 11355
• 代理人: 張雅軍

技術領域

本發明涉及一種位相差板的制法，特別是涉及一種具有兩種配向方向的位相差板的制法。

背景技術

一般，3D立體顯示技術主要可分成兩大類，一類是裸眼式(glasses-free)，另一類則是眼鏡式。一般而言，裸眼式技術易有影像分辨率較差、亮度降低，以及難以達到多視角等問題，使得影像質量較差且觀看的位置會受到限制，此為目前裸眼式技術仍難以克服的課題。

眼鏡式的立體顯示技術雖然在使用上增加了需額外配戴3D眼鏡的困擾，但具有視角寬廣且可提供多人觀看的優點。在眼鏡式技術當中，以偏光式眼鏡技術較為成熟，其在制作上具有成本較低、配戴輕便，且可改善快門式眼鏡影像閃爍的問題等優勢。

現有偏光式眼鏡技術需利用能分別改變左眼影像及右眼影像偏極狀態的薄膜單元。此薄膜單元一般是利用圖樣化的偏光片或是位相差板，對應至交錯配置的影像顯示單元，分別將左眼影像及右眼影像改變為不同的偏極方向，再使左眼影像及右眼影像分別投影至左眼及右眼，進而產生3D的立體影像效果。

歐洲專利EP0887667公開了一種以多次摩擦配向的方式，制成具有不同配向方向的圖樣化位相差板。但其易因摩擦配向產生粉塵靜電的問題，且此技術需使用復雜的曝光顯影(complicated?photolithography)工藝，操作上不易精準地控制，致使其存在有良率過低的問題，并不適用于量產。此外，一般可采用光配向技術來避免摩擦配向所導致的靜電問題，且僅需要以硬質光罩遮蓋而區分出不同的區域后，再分別利用不同方向的線性偏極紫外光使用于配向液晶材料的光配向材料層的不同區域分別固化，接著涂布液晶并以非線性偏極(non-linearly?polarized)紫外光將其固化，借此制得具有兩種配向方向的圖樣化的位相差板。但該技術需要經過光罩(例如：硬質石英光罩)遮蓋，難以應用于生產線上卷對卷(roll?to?roll,R2R)工藝中，且使用光罩時必須搭配平行光源照射，方可制作出精確且配向結果均勻的圖樣化位相差板。因前述方法存有工藝成本過高、不利于大面積化照射并快速制作、配向結果不均勻等缺陷，難以于量產工藝中實施。

由于前述一般制作具有兩種配向方向的位相差板的方法，均有良率低、成本過高及難以應用于R2R工藝等問題，因此，開發出一種工藝簡易、成本低廉且質量佳的位相差板制作方法，是有其必要的。

發明內容

本發明的目的在于提供一種制造位相差板的方法，本發明制造位相差板的方法包含：在一提供圖樣化透光基材步驟中，提供一具有兩相反側的圖樣化透光基材，在該圖樣化透光基材的任一側的表面上具有一遮光圖樣，在該圖樣化透光基材的其中一側的表面上具有一感壓黏著層；在一貼合步驟中，提供一配向透光基材，將該配向透光基材的第一側的表面與該感壓黏著層接觸，使該圖樣化透光基材與該配向透光基材貼合；在一形成光配向材料層步驟中，在相對于該配向透光基材的第一側的第二側的表面上形成一光配向材料層；在一第一照光步驟中，將一具有第一偏極方向的第一線性偏極紫外光(first?PUV)，自該配向透光基材的第一側朝該第二側的方向照射該光配向材料層；在一第二照光步驟中，將一具有不同于該第一偏極方向的第二偏極方向的第二線性偏極紫外光(second?PUV)照射該光配向材料層；以及在一固化液晶步驟中，將一液晶涂布材料涂布于一具有兩種配向方向的光配向層上，以形成一液晶材料層，該具有兩種配向方向的光配向層是由該光配向材料層經過所述照光步驟后所形成，之后固化該液晶材料層，以形成一具有兩種配向方向的位相差板，該貼合步驟是在該第一照光步驟前實施。

根據本發明所述的制造位相差板的方法，在該第一照光步驟后，還包含一將該感壓黏著層與該配向透光基材分離的分離步驟。

根據本發明所述的制造位相差板的方法，該分離步驟是在該固化液晶步驟前實施。

根據本發明所述的制造位相差板的方法，該分離步驟是在該第二照光步驟前實施。

根據本發明所述的制造位相差板的方法，該貼合步驟是在該第二照光步驟后實施。

根據本發明所述的制造位相差板的方法，該第一照光步驟是在該第二照光步驟前實施，且該光配向材料層曝露于該第一線性偏極紫外光的累積曝光能量高于該第二線性偏極紫外光的累積曝光能量。

根據本發明所述的制造位相差板的方法，該第二照光步驟是在該第一照光步驟前實施，且該光配向材料層曝露于該第一線性偏極紫外光的累積曝光能量不低于該第二線性偏極紫外光的累積曝光能量。