[發明專利]一種熱處理用真空爐大空間爐膛及控溫方法無效
| 申請號: | 201210592188.4 | 申請日: | 2012-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN103045810A | 公開(公告)日: | 2013-04-17 |
| 發明(設計)人: | 陳紅進;程馬勇;劉軍 | 申請(專利權)人: | 江蘇豐東熱技術股份有限公司 |
| 主分類號: | C21D1/00 | 分類號: | C21D1/00;C21D1/773;C21D11/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 熱處理 真空爐 空間 爐膛 方法 | ||
1.一種熱處理用真空爐大空間爐膛,包括爐膛本體,其特征在于:所述爐膛本體被區分為若干獨立的加熱區,每一個所述獨立的加熱區都設置有可調節溫度的裝置。
2.如權利要求1所述的熱處理用真空爐大空間爐膛,其特征在于:所述爐膛本體被區分為第一加熱區(4)和第二加熱區(5)。
3.如權利要求2所述的熱處理用真空爐大空間爐膛,其特征在于:所述第一加熱區(4)分為三個獨立的小加熱區,所述第二加熱區(5)分為三個獨立的小加熱區。
4.如權利要求1所述的熱處理用真空爐大空間爐膛,其特征在于:所述可調節溫度的裝置為功率調節器(3)和控溫熱電偶(1)。
5.一種如權利要求1所述的熱處理用真空爐大空間爐膛的控溫方法,其特征在于:將預定工作的PLC及被控制的真空爐每一個所述獨立的加熱區上電,并向PC機發送準備就緒信號,利用PC機啟動整個系統的控制運行;當PLC接收到PC機發出的數據提取命令后,就把采集到的真空爐每一個所述獨立的加熱區溫度狀態數據向PC機發送,之后,PLC又繼續控制真空爐每一個所述獨立的加熱區的加熱;PLC對真空爐每一個所述獨立的加熱區的溫度控制依靠對所述可調節溫度的裝置的調節來控制調壓器的輸出電流的大小,進而控制加熱溫度的高低,實現對溫度的控制。
6.如權利要求5所述的控溫方法,其特征在于:工作過程中,PLC一方面實時地維持與PC機之間的數據通信,一方面根據PC機所發出的控制指令來控制真空爐每一個所述獨立的加熱區的加熱。
7.如權利要求5所述的控溫方法,其特征在于:在加熱保溫過程中,所述獨立的加熱區可單獨控制,當某個區域或某幾個區域溫度超出溫度均勻性要求時,通過控溫熱電偶(1)將溫度信號反饋到PLC,通過PLC的比較控制,對溫度異常的區域進行加大或減小加熱功率,保證溫度均勻性不超出公差范圍。
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