[發(fā)明專利]一種金屬基材全干法拉絲表面處理的方法

有效

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• 申請日: 2012-12-31
• 公開（公告）號: CN103014628A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設計）人: 余水;張先超;李明仁
• 申請（專利權）人: 廈門建霖工業(yè)有限公司
• 主分類號: C23C14/16
• 分類號: C23C14/16;C23C14/02
• 代理公司: 廈門南強之路專利事務所 35200
• 代理人: 馬應森

技術領域

本發(fā)明涉及一種金屬及其合金的表面處理方法，尤其是涉及一種金屬基材全干法拉絲表面處理的方法。適合于衛(wèi)浴、家電、五金等零件的綠色環(huán)保拉絲效果表面處理之領域。

背景技術

現(xiàn)有的衛(wèi)浴行業(yè)的金屬基材（銅合金、鋅合金、鋁合金和鐵合金等金屬合金）電鍍的拉絲常規(guī)工藝流程為：除油除蠟，電瓦特鎳（或者氰化物鍍銅或者多次浸鋅），電鍍酸銅，電鍍鎳，然后進行拉絲，再次除油，活化，電鍍鉻或者最后PVD，其工藝路程長，最大的缺點是會產(chǎn)生大量的廢水和重金屬污染物。

中國專利200910135647.4公開一種仿銅效果好、銅金屬質(zhì)感強、保光保色時間長且易規(guī)模化生產(chǎn)的金屬材表面仿銅拉絲工藝。其步驟如下，1）金屬材表面常規(guī)化學預處理，使金屬表面潔凈和光滑平整；2）靜電噴涂含顏料的透明紅戶外粉末涂料或純透明戶外粉末涂料；3）以仿銅底色深灰藍色或黑色直紋的熱敏轉(zhuǎn)印紙進行熱轉(zhuǎn)印，獲得仿銅拉絲效果。

中國專利201110034722公開一種金屬表面仿古色的制作方法,其包含金屬表面處理步驟、第一噴涂步驟、拉絲步驟、第二噴涂步驟及表面干固步驟;其中第二噴涂步驟所使用的涂料為具有顏色且可透光的粉末涂料,因此可使經(jīng)拉絲步驟后的金屬顏色搭配粉末涂料的顏色而呈現(xiàn)仿古色澤,例如古銅色或古銀色;再者表面干固步驟可使粉末涂料均勻化,提高金屬表面的保護性及均勻度。

中國專利200910135647公開一種金屬材表面仿銅拉絲工藝。1)金屬材表面常規(guī)化學預處理,使金屬表面潔凈和光滑平整;2)靜電噴涂含顏料的透明紅戶外粉末涂料或純透明戶外粉末涂料;3)以仿銅底色深灰藍色或黑色直紋的熱敏轉(zhuǎn)印紙進行熱轉(zhuǎn)印,獲得仿銅拉絲效果;其中,所述仿銅底色深灰藍色或黑色直紋的熱敏轉(zhuǎn)印紙,其上印刷色相深灰藍或黑的絲狀直紋理直絲狀條紋,其底色的仿銅色為淺紫紅色、紫紅色或淺黃色。

中國專利201110043115公開一種鎂合金表面處理方法，主要包括以下步驟：(1)將鎂合金工件的表面進行拉絲處理；(2)在拉絲處理過的鎂合金工件表面真空濺鍍一層金屬鋁薄膜；(3)在鎂合金工件的金屬鍍層上噴涂透明光油。該專利的缺點在于真空濺鍍一層金屬鋁薄膜,鋁層的耐蝕性很差，為了獲得其他顏色，還需在噴光油層進行調(diào)色，存在漆層厚度不均勻而導致表面出現(xiàn)色差，不利用穩(wěn)定化量產(chǎn)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有的金屬基材拉絲工藝中存在的缺點與不足，提供一種金屬基材全干法拉絲表面處理的方法。

本發(fā)明包括以下步驟：

1）對金屬基材進行拉絲處理；

2）將經(jīng)過步驟1）處理的金屬基材進行超聲波真空碳氫除油除蠟處理；

3）將經(jīng)過步驟2）處理的金屬基材進行有機硅烷封閉處理并烘干；

4）將經(jīng)過步驟3）處理的金屬基材進行物理氣相沉積等離子體改性后，再進行濺射沉積金屬層或者多弧沉積金屬層；

5）在經(jīng)過步驟4）處理的金屬基材旋轉(zhuǎn)浸涂有機涂層，再次對整個金屬基材進行保護處理，以提升耐蝕性，從而獲得本發(fā)明所述的金屬基材全干法的拉絲效果。

在步驟1）中，所述金屬基材為純銅、銅合金、鋅合金、純鋁、鋁合金、鐵、鐵合金和不銹鋼中的一種；所述拉絲處理可采用自動或者人工拉絲方式進行拉絲，拉絲機的轉(zhuǎn)速為50～1000r/min；拉絲輪可為尼龍輪、飛翼輪、菜瓜布輪等中的至少一種。

在步驟3）中，所述硅烷封孔處理，烘干的具體方法可在常溫下將金屬基材浸泡在硅烷封孔液中5～120s后取出，在100～130℃條件下烘干5～30min；硅烷封孔液的配方為：KH-560(縮水甘油醚氧丙基三甲硅烷)、去離子水、乙醇的體積比為：（2～4）∶5∶（91～93）。

在步驟4）中，所述物理氣相沉積等離子體改性的工藝條件可為：離子源電流0.3～0.6A，偏壓80～150V，占空比40%～80%，氬氣流速100～300SCCM，時間3～8min，以達到清潔及化活化表面之目的；所述濺射沉積金屬層的工藝條件可為：采用中頻脈沖或直流電源，電源電流5～100A，電壓200～600V，沉積時間5～30min，偏壓100～250V，占空比40%～80%，氬氣流速60～200SCCM；所述多弧沉積金屬層其工藝為：電源電流70～120A，電壓20～30V，沉積時間2～30min，偏壓100～250V，占空比40%～80%，氬氣流速60～200SCCM；所述沉積金屬層可采用純鎳（99.6%~99.99%）、鎳鉻合金（Ni95Cr5、Ni80Cr20、Ni50Cr50）中的至少一種，本發(fā)明可優(yōu)先純鎳（99.6%~99.99%）金屬層。