[發(fā)明專利]一種平面反射陣天線的設計方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210590037.5 | 申請日： | 2012-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN103020391A | 公開（公告）日： | 2013-04-03 |
| 發(fā)明（設計）人： | 孫科 | 申請（專利權）人： | 北京航天福道高技術股份有限公司 |
| 主分類號： | G06F17/50 | 分類號： | G06F17/50;H01Q15/14;H01Q19/10;H01Q21/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100195 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 平面 反射 天線 設計 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種平面反射陣天線的設計方法，包括如下幾方面：
1）用平面印刷電路板替代了全金屬的旋轉拋物面或拋物柱面；
2）采用周期性的、晶格化的EBG結構；
3）采用周期性邊界條件建模仿真方法；
4）采用仿真軟件HFSS和板圖設計軟件protel?DXP，并將HFSS仿真設計結果自動轉化為protel設計板圖。
2.根據權利要求1所述的平面反射陣天線的設計方法，其特征在于：選用損耗小、不易變形、交調小的軍品級板材。
3.根據權利要求1所述的平面反射陣天線的設計方法，其特征在于：所述周期邊界條件建模仿真，就是以局部替代整體的仿真方法。
4.根據權利要求1所述的平面反射陣天線的設計方法，其特征在于：晶格化的EBG結構中，晶格中對每一個單元激勵的幅度和相位是可以任意賦值的。
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