[發(fā)明專(zhuān)利]一種在ITO玻璃上電化學(xué)制備海膽狀氧化鋅納米線陣列的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210589679.3 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103074658A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-05-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王曉東 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 蘇州汶顥芯片科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C25D9/04 | 分類(lèi)號(hào): | C25D9/04;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 215028 江蘇省蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 ito 玻璃 電化學(xué) 制備 海膽 氧化鋅 納米 陣列 方法 | ||
1.一種在ITO玻璃基片上電化學(xué)制備海膽狀氧化鋅(ZnO)納米線陣列的方法,其特征在于該制備方法首先采用自組裝方法在ITO玻璃上沉積單層有序聚苯乙烯微球,隨后在微球體表面電化學(xué)沉積良好有序氧化鋅納米線,從而獲得放射狀、海膽形氧化鋅納米線陣列。
2.按權(quán)利要求1所述的一種在ITO玻璃上制備可調(diào)控直徑和高度的海膽狀氧化鋅納米線陣列的方法,其特征在于,制備方法包括如下步驟:
①采用自組裝法在ITO玻璃上制備聚苯乙烯微球陣列作為電沉積氧化鋅納米線的工作電極,采用以下步驟:
1)在恒溫60-80℃下,將ITO玻璃基板依次在三氯乙烯(C2HCl3)、丙酮(CH3COCH3)、異丙醇(CH3CH(OH)CH)溶劑里進(jìn)行超聲清洗10-25min,然后用超純水沖洗干凈,最后用氮?dú)獯蹈伞?/p>
2)在干凈的ITO玻璃基片用自組裝法沉積直徑為微米級(jí)別的單層聚苯乙烯微球,隨后基片在空氣中自然晾干。
3)將附著有聚苯乙烯微球陣列的ITO玻璃基片浸入1-2M的ZnCl2溶液里處理45-60min后取出,作為電沉積氧化鋅納米線的工作電極。
②在氯化鋅溶液里用電化學(xué)方法在微球表面沉積制備高度取向的ZnO納米線陣列,采用以下步驟:
1)采用標(biāo)準(zhǔn)三電極的電沉積系統(tǒng),噴涂有ZnO種子層薄膜的ITO玻璃作為工作電極,鉑絲電極為對(duì)電極,飽和甘汞電極為參比電極。
2)配置ZnO納米線電沉積溶液,1-5x10-4M的ZnCl2為電沉積前驅(qū)物,0.1-3.4M的KCl為支持電解質(zhì)。
3)在電沉積開(kāi)始前,溶液在70-80℃恒溫下,通氧氣10-20min。在電沉積過(guò)程中,一直對(duì)溶液做鼓泡通氧處理。
4)對(duì)工作電極施加-1V?vs飽和甘汞電極,沉積電量Q為2.5-50C/cm2,當(dāng)Q超過(guò)設(shè)定值時(shí),儀器自動(dòng)停止工作。
5)取出樣品,用去離子水沖洗干凈后,用氮?dú)獯蹈桑瞥煞派錉睢⒑D懶窝趸\納米線陣列。
3.按權(quán)利要求1或2所述的一種在ITO玻璃基片上電化學(xué)制備海膽狀氧化鋅納米線陣列的方法,其特征在于,組裝完畢的微球放入1-2M?ZnCl2溶液里處理一段時(shí)間,使聚苯乙烯微球表面具有電化學(xué)活性。
4.按權(quán)利要求1或2所述的一種在ITO玻璃基片上電化學(xué)制備海膽狀氧化鋅納米線陣列的方法其特征在于,ZnO納米線陣列垂直生長(zhǎng)于微球表面,從而獲得放射狀、海膽形氧化鋅納米線陣列。
5.按權(quán)利要求1或2所述的一種在ITO玻璃基片上電化學(xué)制備海膽狀氧化鋅納米線陣列的方法其特征在于,ZnO納米線的高度由電量Q調(diào)控;ZnO納米線的直徑由KCl,ZnCl2的濃度來(lái)調(diào)控。
6.按權(quán)利要求1或2所述的一種在ITO玻璃基片上電化學(xué)制備海膽狀氧化鋅納米線陣列的方法,其特征在于,電沉積方法制備ZnO納米線和ZnO納米管的操作簡(jiǎn)單,合成時(shí)間短,能量消耗低,產(chǎn)量較高。
7.按權(quán)利要求1或2所述的一種在ITO玻璃基片上電化學(xué)制備海膽狀氧化鋅納米線陣列的方法,其特征在于,制備的海膽狀ZnO納米線由ZnO納米晶組成,具有良好的光學(xué)和電學(xué)性能,可廣泛應(yīng)用于納米晶太陽(yáng)能電池、納米傳感器等領(lǐng)域。
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