[發明專利]一種GST中性化學機械拋光液

有效

• 申請號: 201210586914.1
• 申請日: 2012-12-28
• 公開（公告）號: CN103897603A
• 公開（公告）日: 2014-07-02
• 發明（設計）人: 閆未霞;王良詠;劉衛麗;宋志棠
• 申請（專利權）人: 上海新安納電子科技有限公司;中國科學院上海微系統與信息技術研究所
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02
• 代理公司: 上海光華專利事務所 31219
• 代理人: 許亦琳;余明偉

1.一種GST中性化學機械拋光液，以重量百分比計，包括如下組分：

二氧化硅拋光顆粒??0.2-30wt%；

氧化劑??0.01-5wt%；

表面活性劑??0.01-4wt%；

余量為pH值調節劑和去離子水；

所述GST中性化學機械拋光液的pH值為6-8。

2.如權利要求1所述的一種GST中性化學機械拋光液，其特征在于，以重量百分比計，包括如下組分：

二氧化硅拋光顆粒??2-6wt%；

氧化劑??1-4wt%；

表面活性劑??0.05-2wt%；

余量為pH值調節劑和去離子水；

所述GST中性化學機械拋光液的pH值為6-8。

3.如權利要求2所述的一種GST中性化學機械拋光液，其特征在于，所述的pH值調節劑選自氫氧化鉀、氨水、羥乙基乙二氨、四甲基氫氨。

4.如權利要求2所述的一種GST中性化學機械拋光液，其特征在于，所述的氧化劑選自鐵氰化鉀、雙氧水和過硫酸銨。

5.如權利要求2所述的一種GST中性化學機械拋光液，其特征在于，選自聚氧乙烯硫酸鈉(AES)、聚丙烯酸鈉和聚氧乙烯醚磷酸酯。

6.如權利要求1-5任一權利要求所述的GST中性化學機械拋光液在相變材料拋光領域的應用。